Details

Комиссаров, Александр Сергеевич. Исследование теплового режима вакуумно-дугового источника и влияние его на генерируемые параметры плазменного потока [Электронный ресурс]: магистерская диссертация / А.С. Комиссаров; Санкт-Петербургский государственный политехнический университет, Институт энергетики и транспортных систем, Кафедра электротехники и электроэнергетики. — Электрон. текстовые дан. (1 файл : 2,75 Мб). — Санкт-Петербург, 2014. — Загл. с титул. экрана. — Свободный доступ из сети Интернет (чтение, печать, копирование). — Текстовый файл. — Adobe Acrobat Reader 7.0. — <URL:http://elib.spbstu.ru/dl/2/4801.pdf>.

Record create date: 10/17/2014

Subject: Дуговой разряд; Плазма (физ.) — Параметры - Измерение

UDC: 621.387:533.9(043.3)

Collections: Выпускные квалификационные работы; Общая коллекция

Allowed Actions: Read Download (2.8 Mb) You need Flash Player to read document

Group: Anonymous

Network: Internet

Annotation

Для увеличения удельной мощности мощных генераторных ламп наносят антиэмиссионные покрытия, используя потоки металлической плазмы, генерируемые вакуумно-дуговым разрядом в вакуумно-дуговых установках. Температурный режим катодного пятна такой установки достаточно высок, что вызывает интенсивное испарение и ионизацию материала катода. В результате исследования и моделирования теплового режима титанового катода вакуумно-дугового источника теплового режима такой установки показано, что катодное пятно с малой скоростью перемещения эмитирует большое количество капельной фракции, которая снижает характеристики покрытий. Для улучшения наносимых покрытий использовалось регулирование движения катодных пятен по поверхности катода магнитными полями, которые увеличивают их скорость перемещения, вследствие чего уменьшается количество нежелательной капельной фракции.

Document access rights

Network User group Action
FL SPbPU Local Network All Read Print Download
-> Internet All Read Print Download

Document usage statistics

stat Document access count: 753
Last 30 days: 8
Detailed usage statistics