Для увеличения удельной мощности мощных генераторных ламп наносят антиэмиссионные покрытия, используя потоки металлической плазмы, генерируемые вакуумно-дуговым разрядом в вакуумно-дуговых установках. Температурный режим катодного пятна такой установки достаточно высок, что вызывает интенсивное испарение и ионизацию материала катода. В результате исследования и моделирования теплового режима титанового катода вакуумно-дугового источника теплового режима такой установки показано, что катодное пятно с малой скоростью перемещения эмитирует большое количество капельной фракции, которая снижает характеристики покрытий. Для улучшения наносимых покрытий использовалось регулирование движения катодных пятен по поверхности катода магнитными полями, которые увеличивают их скорость перемещения, вследствие чего уменьшается количество нежелательной капельной фракции.