Детальная информация
Название | Термодинамический анализ процессов взаимодействия тетрафторида кремния и гексафторсиликатов с водород- и кислородсодержащими веществами // Научно-технические ведомости Санкт-Петербургского государственного политехнического университета. Сер.: Физико-математические науки. – 2020. – С. 92-105 |
---|---|
Авторы | Зимин А. Р.; Пашкевич Д. С.; Маслова А. С.; Капустин В. В.; Алексеев Ю. И. |
Выходные сведения | 2020 |
Коллекция | Общая коллекция |
Тематика | Физика; Термодинамика и статистическая физика; термодинамический анализ; тетрафторид кремния; гексафторсиликаты; водородсодержащие вещества; кислородсодержащие вещества; высокотемпературная обработка; термодинамическое равновесие; thermodynamic analysis; silicon tetrafluoride; exafluorosilicate; hydrogen-containing substances; oxygen-containing substances; high temperature treatment; thermodynamic equilibrium |
УДК | 536.7 |
ББК | 22.317 |
Тип документа | Статья, доклад |
Тип файла | |
Язык | Русский |
DOI | 10.18721/JPM.13108 |
Права доступа | Свободный доступ из сети Интернет (чтение, печать, копирование) |
Ключ записи | RU\SPSTU\edoc\64412 |
Дата создания записи | 08.12.2020 |
Термодинамическими расчетами показано, что в системе элементов Si-F-H-O при температуре выше 1300 K основным кремнийсодержащим веществом является диоксид кремния, а основным фторсодержащим - фторид водорода. Указанная температура реализуется при проведении реакций взаимодействия тетрафторида кремния и фторсиликатов с водородсодержащими и кислородсодержащими веществами в режиме горения. Высокотемпературная обработка тетрафторида кремния и фторсиликатов в режиме горения может стать основой промышленной технологии производства фторида водорода.
In the paper, the thermodynamic calculations have shown that at the temperatures above 1300 K, the main silicon-containing substance is silicon dioxide in the Si-F-H-O element system, and the main fluorine-containing one is hydrogen fluoride in the same system. The mentioned temperature was realized during the interaction reactions between silicon tetrafluoride, fluorosilicates and hydrogen-containing, oxygen-containing substances in the combustion mode. The high-temperature treatment of silicon tetrafluoride and fluorosilicates in the combustion mode can become the basis of industrial technology for hydrogen fluoride production.
Количество обращений: 365
За последние 30 дней: 13