Детальная информация

Название: Термодинамический анализ процессов взаимодействия тетрафторида кремния и гексафторсиликатов с водород- и кислородсодержащими веществами // Научно-технические ведомости Санкт-Петербургского государственного политехнического университета. Сер.: Физико-математические науки. – 2020 Т. 13, № 1
Авторы: Зимин А. Р.; Пашкевич Д. С.; Маслова А. С.; Капустин В. В.; Алексеев Ю. И.
Выходные сведения: 2020
Коллекция: Общая коллекция
Тематика: Физика; Термодинамика и статистическая физика; термодинамический анализ; тетрафторид кремния; гексафторсиликаты; водородсодержащие вещества; кислородсодержащие вещества; высокотемпературная обработка; термодинамическое равновесие; thermodynamic analysis; silicon tetrafluoride; exafluorosilicate; hydrogen-containing substances; oxygen-containing substances; high temperature treatment; thermodynamic equilibrium
УДК: 536.7
ББК: 22.317
Тип документа: Статья, доклад
Тип файла: PDF
Язык: Русский
DOI: 10.18721/JPM.13108
Права доступа: Свободный доступ из сети Интернет (чтение, печать, копирование)

Разрешенные действия: Прочитать Загрузить (0,4 Мб)

Группа: Анонимные пользователи

Сеть: Интернет

Аннотация

Термодинамическими расчетами показано, что в системе элементов Si-F-H-O при температуре выше 1300 K основным кремнийсодержащим веществом является диоксид кремния, а основным фторсодержащим - фторид водорода. Указанная температура реализуется при проведении реакций взаимодействия тетрафторида кремния и фторсиликатов с водородсодержащими и кислородсодержащими веществами в режиме горения. Высокотемпературная обработка тетрафторида кремния и фторсиликатов в режиме горения может стать основой промышленной технологии производства фторида водорода.

In the paper, the thermodynamic calculations have shown that at the temperatures above 1300 K, the main silicon-containing substance is silicon dioxide in the Si-F-H-O element system, and the main fluorine-containing one is hydrogen fluoride in the same system. The mentioned temperature was realized during the interaction reactions between silicon tetrafluoride, fluorosilicates and hydrogen-containing, oxygen-containing substances in the combustion mode. The high-temperature treatment of silicon tetrafluoride and fluorosilicates in the combustion mode can become the basis of industrial technology for hydrogen fluoride production.

Права на использование объекта хранения

Место доступа Группа пользователей Действие
Локальная сеть ИБК СПбПУ Все Прочитать Печать Загрузить
-> Интернет Все Прочитать Печать Загрузить

Статистика использования

stat Количество обращений: 57
За последние 30 дней: 14
Подробная статистика