Таблица | Карточка | RUSMARC | |
Разрешенные действия: Прочитать Загрузить (0,4 Мб) Группа: Анонимные пользователи Сеть: Интернет |
Аннотация
Термодинамическими расчетами показано, что в системе элементов Si-F-H-O при температуре выше 1300 K основным кремнийсодержащим веществом является диоксид кремния, а основным фторсодержащим - фторид водорода. Указанная температура реализуется при проведении реакций взаимодействия тетрафторида кремния и фторсиликатов с водородсодержащими и кислородсодержащими веществами в режиме горения. Высокотемпературная обработка тетрафторида кремния и фторсиликатов в режиме горения может стать основой промышленной технологии производства фторида водорода.
In the paper, the thermodynamic calculations have shown that at the temperatures above 1300 K, the main silicon-containing substance is silicon dioxide in the Si-F-H-O element system, and the main fluorine-containing one is hydrogen fluoride in the same system. The mentioned temperature was realized during the interaction reactions between silicon tetrafluoride, fluorosilicates and hydrogen-containing, oxygen-containing substances in the combustion mode. The high-temperature treatment of silicon tetrafluoride and fluorosilicates in the combustion mode can become the basis of industrial technology for hydrogen fluoride production.
Права на использование объекта хранения
Входит в состав
Статистика использования
Количество обращений: 297
За последние 30 дней: 5 Подробная статистика |