Детальная информация
Название | Температурная характеризация соединительных туннельных диодов GaAs/AlGaAs // Научно-технические ведомости Санкт-Петербургского государственного политехнического университета. Сер.: Физико-математические науки. – 2023. – Т. 16, № 4. — С. 30-41 |
---|---|
Авторы | Контрош Е. В. ; Калиновский В. С. ; Климко Г. В. ; Бер Б. Я. ; Прудченко К. К. ; Толкачев И. А. ; Казанцев Д. Ю. |
Выходные сведения | 2023 |
Коллекция | Общая коллекция |
Тематика | Энергетика ; Полупроводниковые материалы и изделия ; диоды ; туннельные диоды (энергетика) ; соединительные туннельные диоды ; температурная характеризация ; вольтамперные характеристики ; эпитаксиальные слои ; дифференциальное сопротивление ; diodes ; tunnel diodes (energy) ; connecting tunnel diodes ; temperature characterization ; A volt ampere characteristics ; epitaxial layers ; differential resistance |
УДК | 621.315.592 |
ББК | 31.233 |
Тип документа | Статья, доклад |
Тип файла | |
Язык | Русский |
DOI | 10.18721/JPM.16403 |
Права доступа | Свободный доступ из сети Интернет (чтение, печать, копирование) |
Ключ записи | RU\SPSTU\edoc\72579 |
Дата создания записи | 12.03.2024 |
Разрешенные действия
–
Действие 'Загрузить' будет возможно после подготовки администраторами необходимых файлов
Группа | Анонимные пользователи |
---|---|
Сеть | Интернет |
В температурном диапазоне 100 - 400 K исследованы вольтамперные характеристики двух типов структур соединительных туннельных диодов (ТД) n{++}-GaAs-(deltaSi)/i-(GaAs/Al[0,2]Ga[0,8]As)/p{++}-Al[0,2]Ga[0,8]As-(deltaBe), отличающихся температурой роста и толщинами эпитаксиальных слоев. Определены температурные зависимости основных параметров ТД: пикового значения плотности туннельного тока J[p], плотности тока долины J[v] и дифференциального сопротивления R[d]. Образцы ТД структуры А, выращенной при температуре 500 С, обеспечивают в диапазоне 100 - 400 K наибольшие значения пикового тока J[p] меньше/равно 220 A/см{2} при температурной стабильности величины около 93 %. ТД структуры В, выращенные при температуре 450 С, показали меньшие значения плотности пикового туннельного тока: J[p] меньше/равно 150 А/см{2}, с существенной линейной температурной зависимостью. Полученные результаты могут быть использованы при разработке и создании монолитных многопереходных фотопреобразователей мощного лазерного излучения.
The current-voltage characteristics of two types of GaAs-(deltaSi)/i-(GaAs/A[l0.2]Ga[0.8]As)/p{++}-Al[0.2]Ga[0.8]As-(deltaBe) tunnel diode (TD) structures grown at different temperatures and epitaxial layer thicknesses have been investigated in the temperature range 100 - 400 K. Temperature dependences of the main TD parameters were determined: the peak value of the tunnel current density (J[p]), the valley current density (J[v]) and the differential resistance (R[d]). TD samples of structure A grown at 500 C exhibited the highest values of the peak current density (J[p] less than/equal to 220 A/cm{2}) with temperature stability of 93 % over the whole temperature range. TD samples of structure B grown at 450 C showed lower values of the peak tunneling current density (Jp less than/equal to 150 A/cm{2}), with significantly linear temperature dependence. Our findings can be used in the design and development of monolithic multijunction photoconverters of powerful laser radiation.
Место доступа | Группа пользователей | Действие |
---|---|---|
Локальная сеть ИБК СПбПУ | Все |
|
Интернет | Все |
|
Количество обращений: 129
За последние 30 дней: 7