Приведено описание оригинальной установки плазмохимического травления широкого спектра функциональных материалов. Изучены физико-химические особенности плазмохимического травления (ПХТ) SiO2, SiC и LiNbO3 во фторсодержащей плазме. Описаны эксперименты по ранжированию различных операционных параметров процесса ПХТ по степени их влияния на скорость травления. Представлены результаты изучения термостимулированного процесса ПХТ, позволившие предложить высокопроизводительные процессы прецизионной обработки SiO2, SiC и LiNbO3 в высокоплотной индуктивно-связанной плазме (ИСП).