Численное моделирование газоразрядной плазмы широко используется совместно с экспериментальными исследованиями для разработки новых методов обработки поверхности твердого тела в газовом разряде и проектирования соответствующих газоразрядных технологических установок. Работа посвящена численному анализу параметров потока ионов и химически активных нейтральных частиц из ВЧ газовых разрядов, предназначенных для реактивного травления и физического распыления твердого тела, а также анализу уширения функции распределения ионов в электростатическом энергоанализаторе задерживающего потенциала. Рассмотрены ВЧ разряды как в инертных газах He, Ne, Ar, предназначенные для физического распыления, так и в молекулярном газе BCl3, который является перспективным для реализации реактивного ионного травления диэлектриков и полупроводников на основе соединений с кислородом.