Details

Title Закономерности низкотемпературного плазмохимического осаждения покрытий SiOxCyHz на полимеры при атмосферном давлении: специальность 2.6.6. Нанотехнологии и наноматериалы: автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата химических наук
Creators Биль Анастасия Сергеевна
Scientific adviser Александров Сергей Евгеньевич
Organization Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого
Imprint Санкт-Петербург, 2024
Collection Научные работы аспирантов/докторантов; Общая коллекция
Subjects Нанотехнология; Осаждение (хим.); Полимеры — Химия; Поликарбонаты; Пленки тонкие; плазмохимическое осаждение при атмосферном давлении; диэлектрический барьерный разряд
UDC 620.3; 542.65; 544.16
Document type Author's Abstract
File type PDF
Language Russian
Speciality code (OKSVNK) 2.6.6.
Speciality group (OKSVNK) 2.0000
DOI 10.18720/SPBPU/2/r24-63
Rights Свободный доступ из сети Интернет (чтение, печать, копирование)
Additionally New arrival
Record key RU\SPSTU\edoc\73998
Record create date 9/26/2024

Allowed Actions

Read Download (1.2 Mb)

Group Anonymous
Network Internet

Работа описывает физико-химические закономерности формирования тонких слоев состава SiOxCyHz на полимерных подложках в низкотемпературной плазме барьерного разряда при атмосферном давлении. Описаны обнаруженные зависимости скоростей роста, химического состава и различных свойств тонких пленок, важных с практической точки зрения, от значения варьируемых параметров процесса осаждения. Проведено сравнение свойств покрытий, осажденных с использованием тетраэтоксисилана и гексаметилдисилоксана. Дано обоснование различия этих свойств, исходя из различия их химической природы.

Network User group Action
ILC SPbPU Local Network All
Read Print Download
Internet All

Access count: 25 
Last 30 days: 3

Detailed usage statistics