Данное учебное пособие предназначено для сотрудников предприятий, занятых разработкой и изготовлением плазмохимического оборудования для повышения их квалификации путем приобретения компетенций в области плазмохимических технологий травления и осаждения материалов электронной и микросистемной техники. Пособие может быть полезно студентам старших курсов, обучаемых в рамках направлений «Наноматериалы» и «Материаловедение и технология материалов» по профилям, относящимся к технологии изделий микроэлектроники и микросистемной техники. В настоящем учебном пособии обсуждаются принципы построения плазмохимического оборудования, основанного на использовании низкотемпературной плазмы, создаваемой с помощью газовых разрядов при пониженных давлениях, основы процессов травления микроэлектронных структур, закономерности процессов плазмохимического травления и примеры их использования для травления разнообразных материалов, а также плазмохимические процессы осаждения слоев на примере нитрида кремния, как одних из наиболее сложных и трудных для практической реализации.

Печатается по решению редакционно-издательского совета Санкт-Петербургского государственного политехнического университета.

• ОГЛАВЛЕНИЕ
• ПРЕДИСЛОВИЕ
• ГЛАВА 1. ВАКУУМНОЕ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОЕ ОБОРУДОВАНИЕ
• ГЛАВА 2. ПРОЦЕССЫ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ
• ГЛАВА 3. ПРОЦЕССЫ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ СЛОЕВ
• ГЛАВА 4. ЗАКОНОМЕРНОСТИ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ ПЛЕНОК НИТРИДА КРЕМНИЯ В УСТАНОВКАХ С УДАЛЕННОЙ ПЛАЗМОЙ
• ЗАКЛЮЧЕНИЕ