Детальная информация
Название | Прикладная физика. Микроэлектроника: учебное пособие. Ч. 2 |
---|---|
Авторы | Сейсян Рубен Павлович |
Организация | Санкт-Петербургский государственный политехнический университет |
Выходные сведения | Санкт-Петербург: Изд-во СПбГПУ, 2002 |
Электронная публикация | Санкт-Петербург, 2021 |
Коллекция | Учебная и учебно-методическая литература; Общая коллекция |
Тематика | Микроэлектроника |
УДК | 621.38.049.77(075.8) |
Тип документа | Учебник |
Тип файла | |
Язык | Русский |
Код специальности ФГОС | 16.00.00 |
Группа специальностей ФГОС | 160000 - Физико-технические науки и технологии |
DOI | 10.18720/SPBPU/2/si21-10 |
Права доступа | Доступ по паролю из сети Интернет (чтение, печать, копирование) |
Ключ записи | RU\SPSTU\edoc\64950 |
Дата создания записи | 11.01.2021 |
Разрешенные действия
–
Действие 'Прочитать' будет доступно, если вы выполните вход в систему или будете работать с сайтом на компьютере в другой сети
Действие 'Загрузить' будет доступно, если вы выполните вход в систему или будете работать с сайтом на компьютере в другой сети
Группа | Анонимные пользователи |
---|---|
Сеть | Интернет |
Пособие соответствует государственному образовательному стандарту дисциплины "Микроэлектронные и полупроводниковые приборы" направления магистерской подготовки 553100 "Техническая физика". Является продолжением учебного пособия "Принципы микроэлектроники", часть 1. Но если первая часть была посвящена технико-экономическому анализу основных движущих сил микроэлектроники, то вторая - затрагивает проблемы эффективного синтеза. Рассмотрены основные ограничения и достоинства различных методов создания микрорисунка на поверхности подложки - широко применяемых и начинающих развиваться наряду с разрабатывавшимися прежде, но оставленными или забытыми по тем или иным причинам. Главное внимание уделено выбору и оценке предельных физических возможностей различных технологических процессов, приемов и конструкций. Проанализирована предельная и достигнутая разрешающая способность волновых и пучковых методов, а также методы точного переноса изображения в рабочие слои материала подложки. Наряду с простейшими "трафаретными" методами исследованы процессы фотолитографии, рентгенолитографии, литографии вакуумно-ультрафиолетовым излучением - в вариантах контактной или теневой, или оптической проекции изображения, а также электронолитографии и ионолитографии как проекционной, так и остросфокусированным пучком. Излагаются наиболее современные идеи создания нанолитографа с проекционной рентгеновской оптикой. Предназначено для студентов радиофизических специальностей физико-технического факультета, изучающих дисциплину "Микроэлектронные и полупроводниковые приборы" в рамках магистерской подготовки и может быть полезно широкому кругу специалистов, связанных с микроэлектронными технологическими процессами, с расчетом и конструированием элементов интегральных схем и электронной аппаратуры, их использующей.
Печатается по решению редакционно-издательского совета Санкт-Петербургского государственного политехнического университета.
Место доступа | Группа пользователей | Действие |
---|---|---|
Локальная сеть ИБК СПбПУ | Все |
|
Интернет | Авторизованные пользователи СПбПУ |
|
Интернет | Анонимные пользователи |
|
Количество обращений: 9
За последние 30 дней: 0