Таблица | Карточка | RUSMARC | |
Разрешенные действия: –
Действие 'Прочитать' будет доступно, если вы выполните вход в систему или будете работать с сайтом на компьютере в другой сети
Действие 'Загрузить' будет доступно, если вы выполните вход в систему или будете работать с сайтом на компьютере в другой сети
Группа: Анонимные пользователи Сеть: Интернет |
Аннотация
Посвящено описанию теории, методам и процессам плазменной технологии нанесения покрытий. Представлены конструкции различных вакуумно-дуговых источников плазмы, приведены параметры генерируемого плазменного потока и методы его диагностики. Описаны режимы работы оборудования и основные параметры технологического процесса формирования покрытий из металлической плазмы вакуумно-дугового разряда. Предназначено для студентов высших учебных заведений, обучающихся по направлениям и специальностям в области техники и технологии при изучении дисциплин «Ионно-вакуумная техника и технология», «Плазменная, лазерная и лучевая техника и технология». Может быть полезно для студентов, обучающихся по другим специальностям.
Печатается по решению редакционно-издательского совета Санкт-Петербургского государственного политехнического университета.
Права на использование объекта хранения
Место доступа | Группа пользователей | Действие | ||||
---|---|---|---|---|---|---|
Локальная сеть ИБК СПбПУ | Все | |||||
Интернет | Авторизованные пользователи СПбПУ | |||||
Интернет | Анонимные пользователи |
Оглавление
- ОГЛАВЛЕНИЕ
- Введение
- 1. Основные свойства газоразрядной плазмы
- 2. Вакуумно-дуговой источник плазмы с интегрально-холодным катодом
- 3. Плазменный поток в неоднородном магнитном поле
- 4. Физико-технологические особенности формирования покрытий
- Библиографический список
Статистика использования
Количество обращений: 15
За последние 30 дней: 0 Подробная статистика |