Table | Card | RUSMARC | |
Allowed Actions: –
Action 'Read' will be available if you login or access site from another network
Action 'Download' will be available if you login or access site from another network
Group: Anonymous Network: Internet |
Annotation
Учебное пособие соответствует государственному образовательному стандарту и освещает один из разделов дисциплины «Технология материалов электронной техники» подготовки специалистов по специальности 240306 «Химическая технология монокристаллов, материалов и изделий электронной техники», а также подготовки магистров по направлению 150600 «Материаловедение и технология новых материалов». Кроме того, пособие может быть полезно для подготовки специалистов по специальности 150108 «Порошковая металлургия, композиционные материалы и покрытия». Рассмотрены физико-химические основы процессов химического осаждения из газовой фазы. Особое внимание уделено экспериментальным методам исследования процессов химического осаждения из газовой фазы современными инструментальными методами. Предназначено для студентов пятого курса факультета технологии и исследования материалов, изучающих дисциплину «Технология материалов электронной техники» в рамках специальной подготовки.
Печатается по решению редакционно-издательского совета Санкт-Петербургского государственного политехнического университета.
Document access rights
Network | User group | Action | ||||
---|---|---|---|---|---|---|
ILC SPbPU Local Network | All | |||||
Internet | Authorized users SPbPU | |||||
Internet | Anonymous |
Table of Contents
- СОДЕРЖАНИЕ
- Введение
- 1. Сущность CVD процессов
- 2. Техника процессов химического осаждения из газовой фазы
- 3. Исследование физико-химических закономерностей CVD процессов
- 4. Выявление закономерностей процессов химического осаждения из газовой фазы с привлечением инструментальных методов исследования технологической среды
- Заключение
- Литература
Usage statistics
Access count: 91
Last 30 days: 2 Detailed usage statistics |