Представленная работа ориентирована на обоснование перевода EUV литографии на рабочую длину волны ?= 11,2 нм, для последующего внедрения в промышленное производство. Целью исследования является получение абсолютно калиброванного спектра плотной Xe плазмы, а из него - соотношения интенсивностей на длинах волн ?= 11,2 нм и ?= 13,5 нм. Для проведения измерений использовались Si/Mo и Mo/Be интерференционные зеркала, с помощью которых была измерена спектральная плотность излучения, попадающего в окно приёмника, как функция от длины волны в полосах 11÷11,8 и 12,8÷14,2 нм соответственно. Также была проведена абсолютная калибровка спектров излучения Xe плазмы, полученных независимо ранее. Измерения с Mo/Be зеркалом проводилась впервые в мире.