В данной работе были исследованы влияния условий формирования КНН в процессе метода МСХТ. Отработан механизм осаждения наночастиц/нанослоев Ag на Si с использованием химического осаждения из раствора. Полученные структуры изучались с помощью РЭМ, АСМ и многоугловой спектральной эллипсометрии. Для расчета и интерпретации эксперимента для слоев наночастиц Ag на c-Si подложке использована модель, в рамках которой определяются псевдодиэлектрические функции ε1 и ε2 (реальная и мнимая части). В расчетных спектрах ε2 для толщин Ag слоев от 5 до 60 нм формируется пик, обусловленный объёмным плазмонным резонансом, возникающий в продольной моде, которая распространяется вдоль плоскости подложки.

In this work, the preparation of SiNWs and porous nanolayers was investigated using a two-stage MACE depending on different conditions. A peak is formed in the region of 3.8 eV due to the volume plasmon resonance in the calculated spectra for the imaginary part of the pseudodelectric function.