С 17 марта 2020 г. для ресурсов (учебные, научные, материалы конференций, статьи из периодических изданий, авторефераты диссертаций, диссертации) ЭБ СПбПУ, обеспечивающих образовательный процесс, установлен особый режим использования. Обращаем внимание, что ВКР/НД не относятся к этой категории.

Details

Title: Оптимизация Xe лазерно - плазменного источника EUV излучения для литографии. Новый метод подавления периферического поглощения: выпускная квалификационная работа магистра: 03.04.02 - Физика ; 03.04.02_05 - Физика плазмы
Creators: Буторин Павел Сергеевич
Scientific adviser: Сергеев Владимир Юрьевич
Organization: Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого. Институт промышленного менеджмента, экономики и торговли
Imprint: Санкт-Петербург, 2019
Collection: Выпускные квалификационные работы; Общая коллекция
Subjects: Лазерная плазма; Фотолитография; EUV литография; периферическое поглощение; брэгговские зеркала; спектр излучения Xe; конверсионный коэффициент
UDC: 533.9:621.373.826; 776
Document type: Master graduation qualification work
File type: PDF
Language: Russian
Speciality code (FGOS): 03.04.02
Speciality group (FGOS): 030000 - Физика и астрономия
Links: Отзыв руководителя; Рецензия; Отчет о проверке на объем и корректность внешних заимствований
DOI: 10.18720/SPBPU/3/2019/vr/vr19-3839
Rights: Свободный доступ из сети Интернет (чтение, печать, копирование)

Allowed Actions:

Action 'Read' will be available if you login or access site from another network Action 'Download' will be available if you login or access site from another network

Group: Anonymous

Network: Internet

Annotation

В представленной работе описывается новый метод подавления периферического поглощения EUV излучения в Xe газоструйном источнике света. С помощью поворотных брэгговских зеркал измерены спектры плотности мощности излучения Xe лазерной плазмы в полосе 11–14 нм. Показано, что при использовании разработанного метода регистрируемый сигнал EUV излучения в полосе длин волн λ= 11÷11,8 нм вырос в 4 раза, а в полосе длин волн λ= 12,7÷14,2 нм – в 10 раз. Впервые для источника с Xe газоструйной мишенью получен конверсионный коэффициент η_(conv ) = (3,65±0,35)%.

The present paper describes a new method for suppressing the peripheral absorption of EUV radiation in a Xe gas-jet source. Using turnable Bragg mirrors, spectra of the Xe radiation power density of a laser plasma in the 11-14 nm band were measured. It is shown that using the developed method, the registered signal of EUV radiation in the wavelength band λ = 11 ÷ 11.8 nm increased 4 times, and in the wavelength band λ = 12.7 ÷ 14.2 nm – 10 times. At first for a source with Xe gas-jet target, the conversion coefficient η_(conv ) = (3,65± 0,35)% was obtained.

Document access rights

Network User group Action
ILC SPbPU Local Network All Read Print Download
Internet Authorized users Read Print Download
-> Internet Anonymous

Usage statistics

stat Access count: 24
Last 30 days: 0
Detailed usage statistics