Детальная информация

Название: Структурные изменения тонкой аморфной пленки кремния при электронном облучении: выпускная квалификационная работа бакалавра: направление 16.03.01 «Техническая физика» ; образовательная программа 16.03.01_10 «Физическая и биомедицинская электроника»
Авторы: Зайцев Никита Сергеевич
Научный руководитель: Подсвиров Олег Алексеевич
Другие авторы: Давыдов Сергей Николаевич
Организация: Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого. Институт физики, нанотехнологий и телекоммуникаций
Выходные сведения: Санкт-Петербург, 2020
Коллекция: Выпускные квалификационные работы; Общая коллекция
Тематика: электронное облучение; кремний; структура; спектроскопия комбинационного рассеяния; взрывная кристаллизация; electron irradiation; silicon; structure; raman spectroscopy
Тип документа: Выпускная квалификационная работа бакалавра
Тип файла: PDF
Язык: Русский
Код специальности ФГОС: 16.03.01
Группа специальностей ФГОС: 160000 - Физико-технические науки и технологии
Ссылки: Отзыв руководителя; Отчет о проверке на объем и корректность внешних заимствований
DOI: 10.18720/SPBPU/3/2020/vr/vr20-1635
Права доступа: Доступ по паролю из сети Интернет (чтение, печать)

Разрешенные действия:

Действие 'Прочитать' будет доступно, если вы выполните вход в систему или будете работать с сайтом на компьютере в другой сети

Группа: Анонимные пользователи

Сеть: Интернет

Аннотация

В данной работе исследуются изменения структуры тонкой плёнки аморфного кремния облученного электронным пучком с различной энергией и дозами. Произведено экспериментальное исследование спектров комбинационного рассеяния света (эффект Рамана).Показано, что облучение электронами с энергией 5-10 keV аморфной пленки кремния толщиной 30 nm на силикатном стекле приводит к ее кристаллизации при температуре, значительно меньшей температуры плавления и отжига кремния.

An experimental study of the changes in the structure of a thin film of amorphous silicon irradiated by electron beam with different energy and radiations doses. Was conducted an experimental study of Raman spectra (Raman effect). It is shown that electron irradiation with energy of 5-10 keV of an amorphous silicon film with30 nm thickness on a silicate glass leads to film crystallization at the temperature significantly lower than the melting and annealing temperature of silicon.

Права на использование объекта хранения

Место доступа Группа пользователей Действие
Локальная сеть ИБК СПбПУ Все Прочитать Печать
Интернет Авторизованные пользователи СПбПУ Прочитать Печать
Интернет Авторизованные пользователи (не СПбПУ)
-> Интернет Анонимные пользователи

Статистика использования

stat Количество обращений: 2
За последние 30 дней: 0
Подробная статистика