Куликов, Михаил Игоревич. Плазмохимическое травление нитрида и оксида кремния ВЧЕ разрядом в смеси SF₆/H₂ и SF₆/D₂: выпускная квалификационная работа магистра: направление 03.04.02 «Физика» ; образовательная программа 03.04.02_10 «Физика космических и плазменных процессов» = Plasma-chemical etching of silicon nitride and silicon oxide by RFC discharge in a mixture of SF₆ / H₂ and SF₆ / D₂ / М. И. Куликов; Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого, Институт физики, нанотехнологий и телекоммуникаций; научный руководитель А. С. Смирнов; консультант по нормоконтролю И. Ю. Веселова; консультант Ю. В. Барсуков. — Санкт-Петербург, 2021. — 1 файл (1,6 Мб). — Загл. с титул. экрана. — Доступ по паролю из сети Интернет (чтение, печать, копирование). — Adobe Acrobat Reader 7.0. — <URL:http://elib.spbstu.ru/dl/3/2021/vr/vr21-3573.pdf>. — <URL:http://elib.spbstu.ru/dl/3/2021/vr/rev/vr21-3573-o.pdf>. — <URL:http://elib.spbstu.ru/dl/3/2021/vr/rev/vr21-3573-r.pdf>. — <URL:http://elib.spbstu.ru/dl/3/2021/vr/rev/vr21-3573-a.pdf>. — DOI 10.18720/SPBPU/3/2021/vr/vr21-3573. — Текст