Details
| Title | Анализ химического состояния элементов структуры TiO2/SiO2, полученных методом АСО, по рентгеновским фотоэлектронным спектрам: выпускная квалификационная работа бакалавра: направление 28.03.01 «Нанотехнологии и микросистемная техника» ; образовательная программа 28.03.01_01 «Технологии наноматериалов и изделий микросистемной техники» |
|---|---|
| Creators | Горшков Егор Владимирович |
| Scientific adviser | Шахмин Александр Львович |
| Organization | Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого. Институт машиностроения, материалов и транспорта |
| Imprint | Санкт-Петербург, 2023 |
| Collection | Выпускные квалификационные работы ; Общая коллекция |
| Subjects | оксид титана ; оксид кремния ; взаимодействие ; структура ; осаждение тонких плёнок ; атомно-слоевое осаждение ; формирование атомного слоя ; поверхность ; химия поверхности ; рфс ; titanium oxide ; silicon oxide ; interaction ; structure ; thin film deposition ; atomic layer deposition ; atomic layer formation ; surface ; surface chemistry ; xps |
| Document type | Bachelor graduation qualification work |
| File type | |
| Language | Russian |
| Level of education | Bachelor |
| Speciality code (FGOS) | 28.03.01 |
| Speciality group (FGOS) | 280000 - Нанотехнологии и наноматериалы |
| DOI | 10.18720/SPBPU/3/2023/vr/vr23-4341 |
| Rights | Доступ по паролю из сети Интернет (чтение) |
| Record key | ru\spstu\vkr\22128 |
| Record create date | 7/18/2023 |
Allowed Actions
–
Action 'Read' will be available if you login or access site from another network
| Group | Anonymous |
|---|---|
| Network | Internet |
В данной работе проанализировано химическое состояние атомов в слоях титана, осаждённых с помощью АСО при разном количестве титана на поверхности с помощью рентгеновской фотоэлектронной спектроско-пии путём анализа линий снятых спектров с поверхности образца. Для определения толщины слоёв на поверхности кремниевой подложки были сняты угловые зависимости атомной концентрации. Также образцы были прогреты до нескольких температур и повторно изучены.
In this paper, the chemical state of atoms in titanium layers deposited with ASO at different amounts of titanium on the surface is analyzed using X-ray photoelectron spectroscopy by analyzing the lines of the spectra taken from the sample surface. To determine the thickness of the layers on the sur-face of the silicon substrate, the angular dependences of the atomic concentra-tion were removed. The samples were also warmed up to several temperatures and re-examined.
| Network | User group | Action |
|---|---|---|
| ILC SPbPU Local Network | All |
|
| Internet | Authorized users SPbPU |
|
| Internet | Anonymous |
|
- СОДЕРЖАНИЕ
- ПЕРЕЧЕНЬ СОКРАЩЕНИЙ И ОБОЗНАЧЕНИЙ
- ВВЕДЕНИЕ
- ГЛАВА 1 ЛИТЕРАТУРНЫЙ ОБЗОР
- 1.1 Основы метода РФС.
- 1.2 Методика работы в программе Casa XPS
- 1.3 Применение и получение плёнок диоксида титана.
- 1.4 Атомно-слоевое осаждение.
- 1.5 Обработка плёнок диоксида титана.
- 1.6 Постановка задач исследования
- ГЛАВА 2 ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНАЯ ЧАСТЬ
- 2.1 Установка атомно-слоевого осаждения
- 2.2 Методика атомно-слоевого осаждения оксида титана
- 2.3 Методика отжига подложек с оксидом титана
- 2.4 Установка для РФС
- 2.5 Методика получения РФС спектров
- ГЛАВА 3 РЕЗУЛЬТАТЫ
- 3.1 Идентификация линий и сравнительный анализ образцов
- 3.2 Анализ толщины оксида титана
- ГЛАВА 1 ЛИТЕРАТУРНЫЙ ОБЗОР
- ЗАКЛЮЧЕНИЕ
- СПИСОК ИСПОЛЬЗОВАННЫХ ИСТОЧНИКОВ
Access count: 9
Last 30 days: 0
