Детальная информация

Название Исследование процесса формирования серебряного омического контакта на кремнии: выпускная квалификационная работа магистра: направление 22.04.01 «Материаловедение и технологии материалов» ; образовательная программа 22.04.01_01 «Материаловедение наноматериалов и компонентов электронной техники» = Study of the formation of a silver ohmic contact on silicon
Авторы Васильчук Дмитрий Дмитриевич
Научный руководитель Александров Сергей Евгеньевич
Организация Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого. Институт машиностроения, материалов и транспорта
Выходные сведения Санкт-Петербург, 2025
Коллекция Выпускные квалификационные работы ; Общая коллекция
Тематика Материаловедение ; омический контакт ; никель-серебро ; кремний ; ohmic contact ; nickel-silver ; silicon
УДК 620.22
Тип документа Выпускная квалификационная работа магистра
Язык Русский
Уровень высшего образования Магистратура
Код специальности ФГОС 22.04.01
Группа специальностей ФГОС 220000 - Технологии материалов
DOI 10.18720/SPBPU/3/2025/vr/vr25-1945
Права доступа Доступ по паролю из сети Интернет (чтение)
Ключ записи ru\spstu\vkr\35162
Дата создания записи 08.07.2025

Разрешенные действия

Действие 'Прочитать' будет доступно, если вы выполните вход в систему или будете работать с сайтом на компьютере в другой сети

Группа Анонимные пользователи
Сеть Интернет

Данная работа посвящена исследованию формирования омических контактов на кремнии. На основании аналитического обзора литературы в качестве металлизации омического контакта была выбрана композиция никель-серебро. Задачи, которые решались в ходе исследования: 1. Исследование механизма формирования омических контактов. 2. Выбор наиболее подходящей композиции. 3. Определение технологических параметров и исследование их влияния на итоговые характеристики контакта. 4. Подбор оптимальных параметров формирования омического контакта и анализ полученных результатов. Работа выполнена на базе предприятия АО «Светлана - Электронприбор». В результате проведенных исследований, отработана технология формирования никель-серебряного омического контакта к эпитаксиальным структурам кремния. Разработан технологический маршрут изготовления силовых диодов на эпитаксиальных структурах кремния с применением никель-серебряного омического контакта. Изготовлена партия кристаллов диодов и проанализированы их отдельные характеристики, в частности прямая ветвь вольт-амперной характеристики.

This work is devoted to the study of the formation of ohmic contacts on silicon. Based on an analytical review of the literature, a nickel-silver composition was chosen as the metallization of the ohmic contact. Tasks that were solved during the study: 1. Study of the mechanism of formation of ohmic contacts. 2. Selection of the most suitable composition. 3. Determination of process parameters and study of their influence on the final characteristics of the contact. 4. Selection of optimal parameters for the formation of ohmic contact and analysis of the obtained results. The work was carried out on the basis of the enterprise JSC "Svetlana - Electronic Equipment". As a result, the technology of formation of a nickel-silver ohmic contact on silicon was obtained and tested. Based on the conducted research, a technological route for the manufacture of power diodes was developed. A batch of diode crystals was manufact ured using this route and their individual characteristics were analyzed, in particular the forward branch of the volt-ampere characteristic.

Место доступа Группа пользователей Действие
Локальная сеть ИБК СПбПУ Все
Прочитать
Интернет Авторизованные пользователи СПбПУ
Прочитать
Интернет Анонимные пользователи
...