Детальная информация

В работе исследованы особенности формирования НЧ из тонкой плёнки золота на поверхности из диоксида титана TiO2 и карбида кремния SiC. Полученные структуры облучались 3 видами ионов (P, PF4, Ta) и отжигались в печи на воздухе. Исследована зависимость образования и сдвига пика плазмонного поглощения золотых наночастиц на поверхности образцов. Показано, что формирование наночастиц зависит как от подложки, так и от метода модификации. Термический отжиг приводит к формированияю наночастиц. Облучение легкими ионами фосфора и молекулами  PF4 при дозе 0,0292 DPA слабо влияет на структуру  слоя золота, тогда как тяжелые ионы Та уже формируют сферические наночастицы. Средний размер наночастиц на подложке из карбида кремния оказывается крупнее, чем на диоксиде титана независимо от вида воздействия.

This work investigates the formation features of nanoparticles (NPs) from a thin gold film on the surfaces of titanium dioxide (TiO₂) and silicon carbide (SiC). The obtained structures were irradiated with three types of ions (P, PF₄, Ta) and annealed in a furnace in air. The dependence of nanoparticle formation and the shift of the plasmon absorption peak of gold nanoparticles on the sample surfaces was studied. It was shown that nanoparticle formation depends on both the substrate and the modification method. Thermal annealing leads to nanoparticle formation. Irradiation with light phosphorus ions and PF4 molecules at a dose of 0.0292 DPA has a weak effect on the gold layer structure, whereas heavy Ta ions already form spherical nanoparticles. The average nanoparticle size on the silicon carbide substrate is larger than on titanium dioxide, regardless of the type of exposure.