Детальная информация
| Название | Источник одиночных фотонов с использованием коллоидных квантовых точек CdSe/CdS/ZnS на волноводах из нитрида кремния = Single photon source based on CdSe/CdS/ZnS quantum dots on silicon nitride waveguides // Оптический журнал. – 2026. – № 1. — С. 80-86 |
|---|---|
| Авторы | Касимов Р. Х. ; Аржанов А. И. ; Седых К. О. ; Голиков А. Д. ; Галанова В. С. ; Гладуш Ю. Г. ; Ковалюк В. В. ; Наумов А. В. ; Гольцман Г. Н. |
| Выходные сведения | 2026 |
| Коллекция | Общая коллекция |
| Тематика | Радиоэлектроника ; Квантовая электроника ; одиночные фотоны ; источники одиночных фотонов ; квантовые точки ; коллоидные квантовые точки ; волноводы ; нитрид кремния ; интегральная оптика ; фотонная эмиссия ; single photons ; single photon sources ; quantum dots ; colloidal quantum dots ; waveguides ; silicon nitride ; integrated optics ; photon emission |
| УДК | 621.375 |
| ББК | 32.86 |
| Тип документа | Статья, доклад |
| Язык | Русский |
| DOI | 10.17586/1023-5086-2026-93-01-80-86 |
| Права доступа | Доступ по паролю из сети Интернет (чтение) |
| Ключ записи | RU\SPSTU\edoc\78381 |
| Дата создания записи | 04.03.2026 |
Предмет исследования. Использование метода капельного нанесения для изготовления источника одиночных фотонов. Цель работы. Разработка технологического процесса изготовления источника одиночных фотонов на коллоидных квантовых точках для использования их в фотонных интегральных схемах. Метод. На первом этапе в программе ANSYS Lumerical рассчитываются период и фактор заполнения фокусирующих элементов связи на длинах волн 545 и 600 нм. На втором этапе используется язык программирования Python для изготовления дизайна чипа, на третьем - электронно-лучевая литография для изготовления чипа. На четвертом этапе методом капельного нанесения размещаются квантовые точки. Основные результаты. Разработан технологический процесс изготовления однофотонного источника. Определено положение квантовых точек на фотонной интегральной схеме и измерены их спектральные характеристики. Полученные данные будут использованы для улучшения точности размещения и повышения вероятности высадки одной квантовой точки в отверстие. Практическая значимость. Предложенный технологический процесс может быть полезен для создания однофотонных источников с использованием квантовых точек в фотонных интегральных схемах, что открывает возможности для различных приложений в области квантовых технологий.
Scope of research. Using the drop-cast method for single-photon source fabrication. The purpose of the work. Development of a technological process for single-photon sources. Method. In the first stage we calculate the period and the fill-factor of the grating couplers for the two wavelengths: 545 and 600 nm. In the second stage to manufacture the chip design we use Python programming language. In the third stage, electron beam lithography is used to manufacture the chip. In the fourth stage, quantum dots were placed using the drop-cast method. Main results. The technological process for single-photon source has been developed. The position of quantum dots on the chip was determined and their spectral characteristics were measured. The obtained data will be used to improve the placement accuracy and increase the probability of individual quantum dot deposition. Practical significance. The proposed technological process can be used to create single-photon sources using quantum dots in photonic integrated circuits, which opens possibilities for various applications in the field of quantum technologies.
Количество обращений: 44
За последние 30 дней: 18