Детальная информация

Название Влияние допирования ионами Ce{3+} на центры окраски в кристалле KY[3]F[10], индуцированные рентгеновским излучением // Оптика и спектроскопия. – 2025. – Т. 133, № 8. — С. 831-837
Авторы Наумов А. К. ; Целищева Е. Ю. ; Целищев Д. И. ; Аглямов Р. Д.
Выходные сведения 2025
Коллекция Общая коллекция
Тематика Физика ; Оптические свойства твердых тел ; кристаллы ; центры окраски в кристаллах ; допирование ионами ; рентгеновское излучение ; индуцирование рентгеновским излучением ; оптические спектры пропускания ; диаграммы энергетических состояний ; фторидные кристаллы
УДК 539.21:535
ББК 22.374
Тип документа Статья, доклад
Язык Русский
DOI 10.61011/OS.2025.08.61509.5882-24
Права доступа Доступ по паролю из сети Интернет (чтение)
Ключ записи RU\SPSTU\edoc\77456
Дата создания записи 20.11.2025

Разрешенные действия

Посмотреть

Представлены результаты исследований оптических свойств центров окраски, образующихся при рентгеновском облучении, в номинально чистом кристалле KY[3]F[10] и допированном ионами Ce{3+}, определены типы и постоянные времена их эволюции. Рассмотрено влияние на эволюцию центров окраски допирования кристалла ионами Ce{3+}. Проведено сравнение параметров центров окраски в допированном кристалле и номинально чистом. Индуцированные рентгеновским излучением центры окраски определены в номинально чистом кристалле как центры окраски F- и F[2]-типов, а в допированном - F-, F[2]- и F[A]-типов. В кристалле KY[3]F[10], допированном ионами Ce{3+}, времена рекомбинации свободных носителей заряда, обусловленных центрами окраски F-типа, существенно отличаются от времен рекомбинации зарядов, обусловленных этими типами центров окраски в номинально чистом кристалле. В допированном кристалле (в сравнении с номинально чистым) максимумы полос поглощения смещаются в коротковолновую область.

Количество обращений: 59 
За последние 30 дней: 10

Подробная статистика