Детальная информация

Исследована повреждаемость поверхности ванадия и выброс с неё микрокапель в вакуумную камеру установки Плазменный фокус “Вихрь” при воздействии импульсных потоков ионов и плазмы (рабочий газ - дейтерий или гелий) с плотностью мощности излучения ~ 10{6} - 10{8} Вт/см{2}. Показано, что в результате импульсного нагрева на поверхности образца образуется жидкая пленка - тонкий слой расплава ванадия. Под действием плазменного потока, движущегося параллельно поверхности образца ванадия с высокой скоростью, возникает неустойчивость Кельвина - Гельмгольца, что приводит к образованию волн на поверхности расплавленного слоя. Воздействие потока плазмы и мощных акустических импульсов, возникающих при импульсном облучении образца, приводит к срыву микрокапель жидкого ванадия и переносу их на поверхность медного экрана-коллектора. Отмечено возможное влияние подобных процессов на работу установок управляемого термоядерного синтеза.

The damage to the vanadium surface and the ejection of microdroplets from the surface of vanadium into the vacuum chamber of the Plasma Focus device “Vikhr” under the influence of pulsed flows of deuterium ions and deuterium plasma with a power density of ~ 10{7} - 10{8} W/cm{2} has been studied. It is shown that, as a result of pulsed heating, a liquid film is formed on the surface of vanadium. Under the action of a plasma flow moving parallel to the surface at a high speed, the Kelvin - Helmholtz instability arises, which leads to the formation of waves on the melt film. Under the influence of the plasma flow and powerful acoustic pulses that occur during pulsed irradiation of the sample, micro-droplets of liquid vanadium break off and transfer them to the surface of the copper screen-collector. The possible influence of such processes on the operation of thermonuclear fusion facilities is noted.