Детальная информация
| Название | Оптимизация технологий изготовления структур интегральной фотоники с использованием позитивного электронного резиста AR-P 6200 // Оптика и спектроскопия. – 2025. – Т. 133, № 3. — С. 292-298 |
|---|---|
| Авторы | Киселевский В. А. ; Фетисенкова К. А. ; Татаринцев А. А. ; Мельников А. Е. ; Глаз О. Г. |
| Организация | "Saratov Fall Meeting-2024", международная конференция |
| Выходные сведения | 2025 |
| Коллекция | Общая коллекция |
| Тематика | Физика ; Геометрическая оптика. Оптические приборы ; интегральная фотоника ; структуры интегральной фотоники ; электронные резисты ; резист AR-P 6200 ; электронно-лучевая литография ; плазмохимическое травление ; фотонные структуры ; высокоинтегрированная фотоника |
| УДК | 535.31 |
| ББК | 22.342 |
| Тип документа | Статья, доклад |
| Язык | Русский |
| DOI | 10.61011/OS.2025.03.60246.2-25 |
| Права доступа | Доступ по паролю из сети Интернет (чтение) |
| Ключ записи | RU\SPSTU\edoc\77273 |
| Дата создания записи | 31.10.2025 |
Создана методика для изготовления волноводов с каналом заданной ширины, используя электронно-лучевую литографию с применением позитивного электронного резиста AR-P 6200 (CSAR 62). Разработан технологический процесс с подобранными параметрами, позволивший изготовить тестовые структуры интегральной фотоники.
Количество обращений: 54
За последние 30 дней: 10