Детальная информация

Название Оптимизация технологий изготовления структур интегральной фотоники с использованием позитивного электронного резиста AR-P 6200 // Оптика и спектроскопия. – 2025. – Т. 133, № 3. — С. 292-298
Авторы Киселевский В. А. ; Фетисенкова К. А. ; Татаринцев А. А. ; Мельников А. Е. ; Глаз О. Г.
Организация "Saratov Fall Meeting-2024", международная конференция
Выходные сведения 2025
Коллекция Общая коллекция
Тематика Физика ; Геометрическая оптика. Оптические приборы ; интегральная фотоника ; структуры интегральной фотоники ; электронные резисты ; резист AR-P 6200 ; электронно-лучевая литография ; плазмохимическое травление ; фотонные структуры ; высокоинтегрированная фотоника
УДК 535.31
ББК 22.342
Тип документа Статья, доклад
Язык Русский
DOI 10.61011/OS.2025.03.60246.2-25
Права доступа Доступ по паролю из сети Интернет (чтение)
Ключ записи RU\SPSTU\edoc\77273
Дата создания записи 31.10.2025

Разрешенные действия

Посмотреть

Создана методика для изготовления волноводов с каналом заданной ширины, используя электронно-лучевую литографию с применением позитивного электронного резиста AR-P 6200 (CSAR 62). Разработан технологический процесс с подобранными параметрами, позволивший изготовить тестовые структуры интегральной фотоники.

Количество обращений: 54 
За последние 30 дней: 10

Подробная статистика