Детальная информация
| Название | Многоэлементное поверхностное легирование титана марки ВТ1-0: структура и свойства // Физика и химия обработки материалов. – 2025. – № 2. — С. 28-36 |
|---|---|
| Авторы | Иванов Ю. Ф. ; Толкачев О. С. ; Петрикова Е. А. ; Прокопенко Н. А. ; Крысина О. В. ; Ахмадеев Ю. Х. ; Коваль Н. Н. |
| Выходные сведения | 2025 |
| Коллекция | Общая коллекция |
| Тематика | Технология металлов ; Металловедение цветных металлов и сплавов ; титан (металловедение) ; легирование титана ; поверхностное легирование титана ; многоэлементное легирование титана ; технически чистый титан ; структура титана ; свойства титана |
| УДК | 669.7/8 |
| ББК | 34.23/25 |
| Тип документа | Статья, доклад |
| Язык | Русский |
| DOI | 10.30791/0015-3214-2025-2-28-36 |
| Права доступа | Доступ по паролю из сети Интернет (чтение) |
| Ключ записи | RU\SPSTU\edoc\77044 |
| Дата создания записи | 09.10.2025 |
Представлен анализ результатов исследования структуры и свойств технически чистого титана марки ВТ1-0, подвергнутого поверхностному легированию облучением системы “пленка - подложка” импульсным электронным пучком. На поверхности образцов титана вакуумно-дуговым плазменно-ассистированным методом были сформированы многоэлементные пленки состава 25,7 ат. % Ti - 17,0 ат. % Al - 21,9 ат. % Nb - 22,3 ат. % Zr - 13,1 ат. % Cu и толщиной 2,5 - 3 мкм, обладающие многослойным строением и аморфно-кристалличностью. Поверхностное легирование образцов титана осуществляли облучением системы “пленка (TiNbAlZrCu) - (ВТ1-0) подложка” интенсивным импульсным электронным пучком (плотность энергии пучка электронов - 20 Дж/см{2}, длительность импульса - 50 мкс, количество импульсов - 3 и 30, частота следования импульсов - 0,3 с{-1}, давление остаточного газа Ar в камере установки - 0,02 Па). Показано, что облучение системы “пленка - подложка” тремя импульсами воздействия пучка электронов сопровождается формированием многоэлементного (Ti, Al, Cu, Zr, Nb), многофазного (TiNbAlZrCu, beta-Ti, Cu, alpha-Ti) субмикро- нанокристаллического поверхностного слоя. Выявлено кратное увеличение микротвердости поверхностного слоя титана марки ВТ1-0 как после формирования на поверхности пленки состава Ti - Al - Cu - Zr - Nb, близкого к эквиатомному, так и после облучения системы “пленка - подложка” импульсным электронным пучком. Установлено, что напыление пленки приводит к многократному (более чем в 13 раз) увеличению износостойкости системы “пленка - подложка”, а последующее облучение с целью формирования легированного поверхностного слоя сопровождается снижением износостойкости образцов.
Количество обращений: 27
За последние 30 дней: 13
