Детальная информация
| Название | Влияние мощного импульсного ионного пучка на топографию поверхности вольфрама // Физика и химия обработки материалов: научно-технический журнал. – 2022. – № 6. — С. 5-10 |
|---|---|
| Авторы | Лигачев А. Е.; Жидков М. В.; Колобов Ю. Р.; Потемкин Г. В.; Лукашова М. В.; Ремнев Г. Е.; Павлов С. К.; Тарбоков В. А. |
| Выходные сведения | 2022 |
| Коллекция | Общая коллекция |
| Тематика | Физика; Физика твердого тела. Кристаллография в целом; вольфрам; поверхность вольфрама; топография поверхности вольфрама; ионные пучки; импульсные ионные пучки; мощные импульсные пучки; растровая электронная микроскопия; tungsten; tungsten surface; tungsten surface topography; ion beams; pulsed ion beams; powerful pulse beams; scanning electron microscopy |
| УДК | 539.2 |
| ББК | 22.37 |
| Тип документа | Статья, доклад |
| Тип файла | Другой |
| Язык | Русский |
| DOI | 10.30791/0015-3214-2022-6-5-10 |
| Права доступа | Доступ по паролю из сети Интернет (чтение) |
| Ключ записи | RU\SPSTU\edoc\70048 |
| Дата создания записи | 13.02.2023 |
Проведена обработка поверхности вольфрама мощным импульсным ионным пучком на ускорителе ТЕМП (ионы C[n]{+}, ускоряющее напряжение 200 +/- 10 кВ, плотность энергии одиночного импульса 2,5 - 3,0 Дж/см{2}). Исследованы изменения рельефа и структуры поверхности образцов вольфрама методом растровой электронной микроскопии.
The tungsten surface was processed by high power pulsed ion beam at the TEMP accelerator (C[n]{+} ions, accelerating voltage 200 +/- 10 kV, energy density of a single pulse 2.6 - 3.0 J/cm{2}). Changes in the relief and structure of the surface of tungsten samples were studied by scanning electron microscopy.
Количество обращений: 21
За последние 30 дней: 0
