Детальная информация

Название Влияние мощного импульсного ионного пучка на топографию поверхности вольфрама // Физика и химия обработки материалов: научно-технический журнал. – 2022. – № 6. — С. 5-10
Авторы Лигачев А. Е.; Жидков М. В.; Колобов Ю. Р.; Потемкин Г. В.; Лукашова М. В.; Ремнев Г. Е.; Павлов С. К.; Тарбоков В. А.
Выходные сведения 2022
Коллекция Общая коллекция
Тематика Физика; Физика твердого тела. Кристаллография в целом; вольфрам; поверхность вольфрама; топография поверхности вольфрама; ионные пучки; импульсные ионные пучки; мощные импульсные пучки; растровая электронная микроскопия; tungsten; tungsten surface; tungsten surface topography; ion beams; pulsed ion beams; powerful pulse beams; scanning electron microscopy
УДК 539.2
ББК 22.37
Тип документа Статья, доклад
Тип файла Другой
Язык Русский
DOI 10.30791/0015-3214-2022-6-5-10
Права доступа Доступ по паролю из сети Интернет (чтение)
Ключ записи RU\SPSTU\edoc\70048
Дата создания записи 13.02.2023

Разрешенные действия

Посмотреть

Проведена обработка поверхности вольфрама мощным импульсным ионным пучком на ускорителе ТЕМП (ионы C[n]{+}, ускоряющее напряжение 200 +/- 10 кВ, плотность энергии одиночного импульса 2,5 - 3,0 Дж/см{2}). Исследованы изменения рельефа и структуры поверхности образцов вольфрама методом растровой электронной микроскопии.

The tungsten surface was processed by high power pulsed ion beam at the TEMP accelerator (C[n]{+} ions, accelerating voltage 200 +/- 10 kV, energy density of a single pulse 2.6 - 3.0 J/cm{2}). Changes in the relief and structure of the surface of tungsten samples were studied by scanning electron microscopy.

Количество обращений: 21 
За последние 30 дней: 0

Подробная статистика