Статистика использования

Моделирование процесса распыления карбида кремния фокусированным пучком ионов галлия = Simulation of silicon carbide sputtering by gallium focused ion beam / А. В. Румянцев, О. В. Подорожний, Р. Л. Волков, Н. И. Боргардт. — 1 файл (562 Кб). — (Технологические процессы и маршруты). — DOI 10.24151/1561-5405-2022-27-4-463-474. — Текст: электронный // Известия высших учебных заведений. Электроника = Proceedings of universities. Electronics: научно-технический журнал. – 2022. – С. 463-474. — Загл. с титул. экрана. — Список литературы представлен на русском и английском языках. — Доступ по паролю из сети Интернет (чтение). — <URL:https://elibrary.ru/item.asp?id=49396191>.

stat
Период Чтение Печать Копирование Открытие Итого
Год 2022 Квартал 4 Декабрь 0 0 0 1 1
Год 2023 Квартал 1 Январь 0 0 0 0 0
Февраль 0 0 0 0 0
Март 0 0 0 0 0
Квартал 2 Апрель 0 0 0 1 1
Май 0 0 0 2 2
Июнь 0 0 0 0 0
Квартал 3 Июль 0 0 0 0 0
Август 0 0 0 0 0
Сентябрь 0 0 0 2 2
Квартал 4 Октябрь 0 0 0 1 1
Ноябрь 0 0 0 3 3
Декабрь 0 0 0 3 3
Год 2024 Квартал 1 Январь 0 0 0 0 0
Февраль 0 0 0 0 0
Март 0 0 0 1 1
Квартал 2 Апрель 0 0 0 0 0
Май 0 0 0 1 1
Июнь 0 0 0 0 0
Квартал 3 Июль 0 0 0 2 2
Август 0 0 0 0 0
Сентябрь 0 0 0 1 1
Квартал 4 Октябрь 0 0 0 1 1
Всего 0 0 0 19 19