Details

Title Влияние допирования ионами Ce{3+} на центры окраски в кристалле KY[3]F[10], индуцированные рентгеновским излучением // Оптика и спектроскопия. – 2025. – Т. 133, № 8. — С. 831-837
Creators Наумов А. К. ; Целищева Е. Ю. ; Целищев Д. И. ; Аглямов Р. Д.
Imprint 2025
Collection Общая коллекция
Subjects Физика ; Оптические свойства твердых тел ; кристаллы ; центры окраски в кристаллах ; допирование ионами ; рентгеновское излучение ; индуцирование рентгеновским излучением ; оптические спектры пропускания ; диаграммы энергетических состояний ; фторидные кристаллы
UDC 539.21:535
LBC 22.374
Document type Article, report
Language Russian
DOI 10.61011/OS.2025.08.61509.5882-24
Rights Доступ по паролю из сети Интернет (чтение)
Record key RU\SPSTU\edoc\77456
Record create date 11/20/2025

Allowed Actions

View

Представлены результаты исследований оптических свойств центров окраски, образующихся при рентгеновском облучении, в номинально чистом кристалле KY[3]F[10] и допированном ионами Ce{3+}, определены типы и постоянные времена их эволюции. Рассмотрено влияние на эволюцию центров окраски допирования кристалла ионами Ce{3+}. Проведено сравнение параметров центров окраски в допированном кристалле и номинально чистом. Индуцированные рентгеновским излучением центры окраски определены в номинально чистом кристалле как центры окраски F- и F[2]-типов, а в допированном - F-, F[2]- и F[A]-типов. В кристалле KY[3]F[10], допированном ионами Ce{3+}, времена рекомбинации свободных носителей заряда, обусловленных центрами окраски F-типа, существенно отличаются от времен рекомбинации зарядов, обусловленных этими типами центров окраски в номинально чистом кристалле. В допированном кристалле (в сравнении с номинально чистым) максимумы полос поглощения смещаются в коротковолновую область.

Access count: 57 
Last 30 days: 9

Detailed usage statistics