Details
| Title | Автоматизированная система управления работой установки атомно-слоевого осаждения TITANATE-ALD = Automated Control System for the Operationof the TITANATE-ALD Atomic Layer Deposition Installation // Инженерная физика. – 2025. – № 6. — С. 3-11 |
|---|---|
| Creators | Юсим В. А. ; Чекулаев И. С. ; Буланова Т. А. ; Саркисов С. Э. ; Алексахин А. Н. ; Соколов И. В. ; Сибирев И. В. ; Буланов В. А. ; Кондратьев К. В. |
| Imprint | 2025 |
| Collection | Общая коллекция |
| Subjects | Техника ; Автоматизация оборудования ; автоматизированные системы ; атомно-слоевое осаждение ; сверхтонкие плёнки ; прекурсоры ; адсорбция ; интерактивный интерфейс ; верхний уровень автоматизации ; automated systems ; atomic layer deposition ; ultra-thin films ; precursors ; adsorption ; interactive interface ; upper level of automation |
| UDC | 681.3:62-52 |
| LBC | 30.6-5-05 |
| Document type | Article, report |
| Language | Russian |
| DOI | 10.25791/infizik.6.2025.1482 |
| Rights | Доступ по паролю из сети Интернет (чтение) |
| Record key | RU\SPSTU\edoc\77371 |
| Record create date | 11/13/2025 |
В данной работе описана система управления работой установки АСО для нанесения сверхтонких плёнок из газовой фазы, основанная на самонасыщаемых реакциях адсорбции между поверхностью и прекурсорами. Показаны преимущества автоматизации и рассмотрена система управления установкой. Особое внимание уделяется реализации верхнего уровня автоматизации системы на базе компонентов JAVA. Разработанное оборудование предполагается использовать в рамках лабораторий, технопарков, образовательных учреждений для ознакомления учащихся с базовыми принципами нанесения тонкоплёночных покрытий полупроводников методом АСО.
This paper describes the control system for the operation of an ALD unit for depositing ultra-thin films from the gas phase, based on self-saturating adsorption reactions between the surface and precursors. The advantages of automation of the unit are shown and the main control systems are considered. Particular attention is paid to the implementation of the upper level of the system based on JAVA components. The developed equipment is supposed to be used in laboratories, technology parks, educational institutions to familiarize students with the basic principles of deposition of thin-film coatings of semiconductors by the ALD method.
Access count: 29
Last 30 days: 14
