Table | Card | RUSMARC | |
Allowed Actions: View |
Annotation
Исследованы спектры испускания (700-1000 nm) и поглощения (200-800 nm) кристаллов LiF и LiF : ОН, облученных в реакторе и подвергнутых воздействию ультрафиолетового света, в том числе и совмещенного с механической нагрузкой. Цель работы - изучение характера поведения лазерных центров окраски в указанных системах. В диапазоне 710-825 nm наблюдаются диаметрально противоположные результаты: высокая устойчивость F[4]-подобных центров в "чистом" LiF и резкое их разрушение в кристаллах LiF : ОН. В то же время в обеих группах разрушаются центры F[3] и F[4] и интенсивно накапливаются лазерные центры F[2]{+} и F[3]{-} (825-925 nm). При последующей выдержке в условиях комнатной температуры и темноты наблюдается самопроизвольный распад лазерных центров, сопровождаемый ростом концентрации F[4]-подобных центров и восстановлением микроструктуры облученных кристаллов.
Included in
Usage statistics
Access count: 18
Last 30 days: 0 Detailed usage statistics |