Термодинамическими расчетами показано, что в системе элементов Si-F-H-O при температуре выше 1300 K основным кремнийсодержащим веществом является диоксид кремния, а основным фторсодержащим - фторид водорода. Указанная температура реализуется при проведении реакций взаимодействия тетрафторида кремния и фторсиликатов с водородсодержащими и кислородсодержащими веществами в режиме горения. Высокотемпературная обработка тетрафторида кремния и фторсиликатов в режиме горения может стать основой промышленной технологии производства фторида водорода.

In the paper, the thermodynamic calculations have shown that at the temperatures above 1300 K, the main silicon-containing substance is silicon dioxide in the Si-F-H-O element system, and the main fluorine-containing one is hydrogen fluoride in the same system. The mentioned temperature was realized during the interaction reactions between silicon tetrafluoride, fluorosilicates and hydrogen-containing, oxygen-containing substances in the combustion mode. The high-temperature treatment of silicon tetrafluoride and fluorosilicates in the combustion mode can become the basis of industrial technology for hydrogen fluoride production.

Научно-технические ведомости Санкт-Петербургского государственного политехнического университета. Сер.: Физико-математические науки. — Санкт-Петербург: СПбПУ, 2019 -. — Электрон. журнал. — Периодичность: 4 раза в год. — Выходит с 07.2019. — Свободный доступ из сети Интернет (чтение, печать, копирование). — Текст: электронный

Научно-технические ведомости Санкт-Петербургского государственного политехнического университета. Сер.: Физико-математические науки. — Санкт-Петербург: СПбПУ, 2019 -. Т. 13, № 1, 2020. — 1 файл (5,18 Мб). — Свободный доступ из сети Интернет (чтение, печать, копирование). — <URL:http://elib.spbstu.ru/dl/2/j20-188.pdf>.