В этой работе были рассмотрены ряд фоторезистов отечественного производства и их соответствующих производителей. Кроме того, были представлены сведения об импортных фоторезистах, которые требуют замены в реальном производстве. Эти фоторезисты используются как для лазерной, так и для контактной литографии. Благодаря детальному анализу различных фоторезистов были определены подходящие альтернативы, которые могут выполнить требуемые задачи. Основными критериями выбора являлись спектральная чувствительность, разрешающая способность и режимы сушки. Чтобы подтвердить правильность выбора альтернативы, был проведен эксперимент с использованием фоторезиста ФП-9120 и сравнение данный с SPR-955. Для эксперимента фоторезист наносился методом центрифугирования, сушился и экспонировался с помощью установки для контактной литографии. Результаты этого эксперимента подтвердили целесообразность использования ФП-9120 в качестве замены SPR-955. Областью применения этой работы было внедрение ФП-9120 в производственный процесс на предприятии.

In this work, several photoresists of domestic production and their respective manufacturers were considered. In addition, information was provided about imported photoresists that require replacement in real production. These 5 photoresists are used for both laser and contact lithography. Thanks to a detailed analysis of various photoresists, suitable alternatives have been identified that can perform the required tasks. The main selection criteria were spectral sensitivity, resolution, and drying modes. To confirm the correctness of the choice of an alternative, an experiment was conducted using a photoresist FP-9120 and comparing this with SPR-955. For the experiment, the photoresist was applied by centrifugation, dried, and exposed using a contact lithography unit. The results of this experiment confirmed the feasibility of using the FP-9120 as a replacement for the SPR-955. The scope of this work was the introduction of the FP-9120 into the production process at the enterprise.