?

Details
Table Card RUSMARC
Title: Оптическая литография в УФ и ВУФ диапазоне: учебное пособие
Creators: Захарова Ирина Борисовна; Елистратова Марина Анатольевна
Organization: Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого
Imprint: Санкт-Петербург, 2024
Collection: Учебная и учебно-методическая литература; Общая коллекция
Subjects: Литография электронная; оптическая литография; планарная технология; интегральная электроника; учебники и пособия для вузов
UDC: 621.3.049.75:776(075.8)
Document type: Tutorial
File type: PDF
Language: Russian
Speciality code (FGOS): 11.03.04
Speciality group (FGOS): 110000 - Электроника, радиотехника и системы связи
DOI: 10.18720/SPBPU/5/tr24-74
Rights: Доступ по паролю из сети Интернет (чтение)
Additionally: New arrival
Record key: RU\SPSTU\edoc\72873

Allowed Actions: –

Action 'Read' will be available if you login or access site from another network

Group: Anonymous

Network: Internet

Annotation

В учебном пособии рассмотрены физические основы технологических процессов литографии – базовой операции планарной технологии интегральной электроники. Рассмотрены физические основы процессов оптической литографии в глубоком и экстремальном ультрафиолетовом диапазоне, достижения и перспективы развития данных методов литографии высокого разрешения. Учебное пособие предназначено для студентов СПбПУ, обучающихся по направлению 11.04 «Электроника и наноэлектроника» и может использоваться при изучении дисциплины «Основы технологии электронной компонентной базы», которая входит в учебный план подготовки по направлению 11.03.04 «Электроника и наноэлектроника» СУОС СПбПУ. Оно может быть также использовано студентами, обучающимися по направлениям 16.03.02 «Техническая физика», 11.03.02 «Инфокоммуникационные технологии и системы связи», в системах повышения квалификации и дополнительного образования.

Document access rights

Network User group Action
ILC SPbPU Local Network All Read
Internet Authorized users Read
-> Internet Anonymous

Table of Contents

  • ОГЛАВЛЕНИЕ
  • ВВЕДЕНИЕ
  • 1. ОСНОВНЫЕ ТЕНДЕНЦИИ РАЗВИТИЯ МИКРО- И НАНОТЕХНОЛОГИЙ. РОЛЬ ПРОЦЕССОВ ЛИТОГРАФИИ
  • 2. ОПТИЧЕСКАЯ ЛИТОГРАФИЯ УФ-ДИАПАЗОНА
  • 2.1. Основные представления о процессах оптической литографии
  • 2.2. Оптические схемы литографии
  • 3. УВЕЛИЧЕНИЕ РАЗРЕШАЮЩЕЙ СПОСОБНОСТИ ОПТИЧЕСКОЙ ЛИТОГРАФИИ УФ-ДИАПАЗОНА
  • 3.1. Источники излучения для литографии в глубоком УФ-диапазоне
  • 3.2. Фоторезисты для ВУФ диапазона.
  • 3.3 Иммерсионная литография
  • 3.4. Фазосдвигающие маски и коррекция оптической близости
  • 3.5. Методы мультиэкспонирования, мультипаттернирования, литографии со спейсерами
  • 4. ФОТОЛИТОГРАФИЯ В ЭКСТРЕМАЛЬНОМ УЛЬТРАФИОЛЕТЕ (EUV)
  • 4.1. Плазменные источники экстремального ультрафиолетового излучения
  • 4.2. Системы экспонирования и проекционная оптика для EUV
  • 4.3. Состояние производства оборудования для литографии высокого разрешения в России
  • Литература для дополнительного изучения

Usage statistics

stat Access count: 0
Last 30 days: 0
Detailed usage statistics