| Таблица | Карточка | RUSMARC | |
|
|
Разрешенные действия: Посмотреть |
Аннотация
Для решения проблемы формообразования неспециализированных полимеров применяются микро- и наноэлектронные технологии нового поколения, например наноимпринтная литография. Частный случай наноимпринтной литографии - мягкая литография, которая включает в себя формирование топологии с использованием мягкого штампа, изготовленного путем оттиска (импринта) жесткого мастер-штампа. Следовательно, проработка возможности самостоятельного изготовления мастер-штампов для формирования оптоэлектронных шин печатных плат нового поколения из неспециализированных полимерных материалов общего применения является актуальной задачей. В работе для рационализации затрат на приобретение дорогостоящего жесткого мастер-штампа мягкой литографии разработан и реализован оригинальный технологический процесс изготовления мастер-штампа на основе фоторезиста SU-8. В ходе отработки предложенного технологического процесса определена причина формирования отрицательного наклона (T-topping) стенок мастер-штампа мягкой литографии. С целью исключения отрицательного наклона разработана и изготовлена серия отсекающих УФ-светофильтров для длин волн оптического излучения менее 350 нм. По экспериментальным данным измерений интенсивности УФ-излучения ртутной лампы i -линии автоматизированной установки совмещения и экспонирования EVG620 NIL построены зависимости ослабления интенсивности УФ-излучения от толщины функционального слоя разработанного УФ-светофильтра для длин волн оптического излучения 365 и 400 нм. Доказана эффективность применения разработанных УФ-светофильтров за счет устранения отрицательного наклона при проведении технологического процесса изготовления тестовой топологии мастер-штампа мягкой литографии. Мягкая литография позволит в перспективе создать печатные платы со встроенной оптоэлектронной шиной передачи данных в виде массива полимерных планарных оптических волноводов и элементов ввода-вывода оптического излучения.
The general-purpose polymers formation issues are solved using micro- and nanoelectronic technologies of new generation, for example a nanoimprint lithography. One of its subspecies, soft lithography, includes topology formation using soft master die fabricated by hard mold imprint. Therefore, engineering study of possibility of hard molds self-dependent fabrication for the purposes of optoelectronic data bus formation for new generation printed circuit boards using general-purpose polymer materials is a priority. In this work, to rationalize the purchasing cost of an expensive hard mold of soft lithography, an original technological process for a hard mold fabrication based on the SU-8 photoresist has been developed and implemented. During the performing of the proposed technological process, the reason for the negative slope (T-topping) formation of soft lithography hard mold walls made of SU-8 photoresist was determined. A series of cut-off UV filters for optical wavelengths less than 350 nm has been developed and fabricated to eliminate T-topping. Based on the UV radiation intensity experimental measurements data from the i -line mercury lamp of the automated alignment and exposure system EVG620 NT, the UV radiation intensity attenuation dependences on the functional layer thickness of the developed optical UV filter for 365 and 400 nm wavelengths are plotted. The developed UV filters application effectiveness has been proven due to T-topping elimination during the technological process of producing the soft lithography hard mold test topology. The use of soft lithography will make it possible in the future to create a new generation printed circuit boards with a built-in optoelectronic data bus in the form of a polymer planar optical waveguides array and optical input / output elements.
Входит в состав
Статистика использования
|
|
Количество обращений: 17
За последние 30 дней: 1 Подробная статистика |