Объектом исследования являются тонкие пленки наноструктурированного гидрогенизированного аморфного кремния, полученные методом плазмо-химического осаждения (PECVD). Целью работы было изучение свойств этих пленок. В зависимости от параметров PECVD процесса проводились исследования ИК-Фурье спектрометрии, спектрометрической эллипсометрии, а так же с помощью установки для измерения темновой проводимости и энергии активации. В результате исследования установлено, что при увеличении давления газовой смеси происходит рост концентрации водорода и содержания изолированных SiH связей, также в объеме пленок происходит рост числа SiH₂ связей и нанокристаллитов. При увеличении мощности разряда также происходит рост концентрации водорода, числа SiH₂ связей и содержания нанокристаллитов в материале.