Details
| Title | Модификация приповерхностной области стекол высоким электрическим полем // Научно-технические ведомости Санкт-Петербургского государственного политехнического университета. Сер.: Физико-математические науки. – 2020. – Т. 13, № 4. — С. 176-184 |
|---|---|
| Creators | Бабич Е. С. ; Редуто И. В. ; Редьков А. В. ; Решетов И. В. ; Журихина В. В. ; Липовский А. А. |
| Imprint | 2020 |
| Collection | Общая коллекция |
| Subjects | Химическая технология ; Стекло и стеклоизделия ; электрические поля ; химическое травление ; ионное травление ; ионный обмен ; приповерхностные области ; силикатные стекла ; стеклянные подложки ; electric fields ; chemical etching ; ion etching ; ion exchange ; near-surface regions ; silicate glasses ; glass substrates |
| UDC | 666.3/.7 |
| LBC | 35.43 |
| Document type | Article, report |
| File type | |
| Language | Russian |
| DOI | 10.18721/JPM.13414 |
| Rights | Свободный доступ из сети Интернет (чтение, печать, копирование) |
| Record key | RU\SPSTU\edoc\65887 |
| Record create date | 3/1/2021 |
В работе было исследовано влияние высокого электрического поля на состав и свойства приповерхностной области многокомпонентных силикатных стекол. Было продемонстрировано, что под влиянием высокого поля концентрация щелочных ионов в приповерхностной области резко уменьшается, что приводит к изменению ионообменных характеристик стекол и их стойкости при травлении. Это позволяет использовать поляризованные области поверхности стекла в качестве диэлектрических масок при формировании градиентных оптических структур, а также рельефных микроструктур, например каналов для микрофлюидики, в стеклянных подложках. Преимуществом такого подхода является отсутствие необходимости в многократной литографии, использующей жидкие химические реагенты, что снижает стоимость и повышает экологичность процесса изготовления структур.
The work has studied an effect of a high DC field on the composition and properties of the sub-surface region of multicomponent silicate glass. The concentration of alkali ions in the subsurface glass region was shown to drastically decrease under the high electric field. This led to a change in the ion-exchange characteristics of glasses and their resistance to etching. The effect allows employing the poled regions of the glass surface as dielectric masks in the formation of gradient optical struc-tures, as well as relief microstructures, e.g., channels for microfluidics, in glass substrates. The ad-vantage of this approach is that there is no need in multiple lithography using liquid chemicals. This reduces the cost and makes this technological process environment friendly.
| Network | User group | Action |
|---|---|---|
| ILC SPbPU Local Network | All |
|
| Internet | All |
|
Access count: 374
Last 30 days: 11
