Details

Title: Модификация приповерхностной области стекол высоким электрическим полем // Научно-технические ведомости Санкт-Петербургского государственного политехнического университета. Сер.: Физико-математические науки. – 2020 Т. 13, № 4
Creators: Бабич Е. С.; Редуто И. В.; Редьков А. В.; Решетов И. В.; Журихина В. В.; Липовский А. А.
Imprint: 2020
Collection: Общая коллекция
Subjects: Химическая технология; Стекло и стеклоизделия; электрические поля; химическое травление; ионное травление; ионный обмен; приповерхностные области; силикатные стекла; стеклянные подложки; electric fields; chemical etching; ion etching; ion exchange; near-surface regions; silicate glasses; glass substrates
UDC: 666.3/.7
LBC: 35.43
Document type: Article, report
File type: PDF
Language: Russian
DOI: 10.18721/JPM.13414
Rights: Свободный доступ из сети Интернет (чтение, печать, копирование)
Additionally: New arrival

Allowed Actions: Read Download (0.6 Mb)

Group: Anonymous

Network: Internet

Annotation

В работе было исследовано влияние высокого электрического поля на состав и свойства приповерхностной области многокомпонентных силикатных стекол. Было продемонстрировано, что под влиянием высокого поля концентрация щелочных ионов в приповерхностной области резко уменьшается, что приводит к изменению ионообменных характеристик стекол и их стойкости при травлении. Это позволяет использовать поляризованные области поверхности стекла в качестве диэлектрических масок при формировании градиентных оптических структур, а также рельефных микроструктур, например каналов для микрофлюидики, в стеклянных подложках. Преимуществом такого подхода является отсутствие необходимости в многократной литографии, использующей жидкие химические реагенты, что снижает стоимость и повышает экологичность процесса изготовления структур.

The work has studied an effect of a high DC field on the composition and properties of the sub-surface region of multicomponent silicate glass. The concentration of alkali ions in the subsurface glass region was shown to drastically decrease under the high electric field. This led to a change in the ion-exchange characteristics of glasses and their resistance to etching. The effect allows employing the poled regions of the glass surface as dielectric masks in the formation of gradient optical struc-tures, as well as relief microstructures, e.g., channels for microfluidics, in glass substrates. The ad-vantage of this approach is that there is no need in multiple lithography using liquid chemicals. This reduces the cost and makes this technological process environment friendly.

Document access rights

Network User group Action
ILC SPbPU Local Network All Read Print Download
-> Internet All Read Print Download

Usage statistics

stat Access count: 49
Last 30 days: 7
Detailed usage statistics