Details

Title Создание оптических изолированных микрорезонаторов GaP(NAs) на кремнии // Научно-технические ведомости Санкт-Петербургского государственного политехнического университета. Сер.: Физико-математические науки. – 2024. – Т. 17, № 3. — С. 25-35
Creators Дворецкая Л. Н. ; Можаров А. М. ; Комаров С. Д. ; Вячеславова Е. А. ; Моисеев Э. И. ; Федоров В. В. ; Мухин И. С.
Imprint 2024
Collection Общая коллекция
Subjects Физика ; Геометрическая оптика. Оптические приборы ; микрорезонаторы ; оптические микрорезонаторы ; изолированные микрорезонаторы ; микрорезонаторы на кремнии ; плазмохимическое травление ; микрофотолюминесценция ; полупроводниковые материалы ; microresonators ; optical microresonators ; insulated microresonators ; silicon microresonators ; plasma chemical etching ; microphotoluminescence ; semiconductor materials
UDC 535.31
LBC 22.344
Document type Article, report
File type PDF
Language Russian
DOI 10.18721/JPM.17303
Rights Свободный доступ из сети Интернет (чтение, печать, копирование)
Record key RU\SPSTU\edoc\75153
Record create date 2/4/2025

Allowed Actions

Read Download (1.6 Mb)

Group Anonymous
Network Internet

В статье представлена технология формирования оптических микрорезонаторов, основанных на системе полупроводниковых материалов GaP(NAs) на кремниевой подложке. Впервые разработан режим плазмохимического травления, при котором достигается аспектное соотношение 5:1 при травлении слоев, состоящих из элементов III - V групп, и низкая шероховатость боковых стенок. Предложен технологический подход, обеспечивающий оптическое разделение микрорезонатора с кремниевой подложкой, что важно для эффективной локализации света в фотонной структуре. Проведенные оптические исследования и численный расчет показали наличие модуляций в спектрах микрофотолюминесценции микроструктур; модуляции обусловлены возникновением резонансов Фабри - Перо. Выполненное исследование является важным шагом в развитии технологии создания и применения комбинированных структур с оптическими волноводами на кремниевой основе.

This article presents the technology for the formation of optical microcavities based on the GaP(NAs) semiconductor material system on silicon. For the first time, a plasma etching mode which ensures the achievement of an aspect ratio of 5:1 and low roughness of the side walls has been proposed in etching layers of III-V groups. A technological approach was also put forward to ensure optical separation of the microcavity with the Si substrate, that being important for efficient localization of light in the photonic structure. The optical studies and numerical calculation showed the presence of modulations in the micro-photoluminescence spectra of microstructures caused by the appearance of Fabry - Perot resonances. This research is an important step in the development of the technology of creation and application of combined structures with silicon-based optical waveguides.

Network User group Action
ILC SPbPU Local Network All
Read Print Download
Internet All

Access count: 61 
Last 30 days: 14

Detailed usage statistics