Таблица | Карточка | RUSMARC | |
Разрешенные действия: Прочитать Загрузить (0,7 Мб) Группа: Анонимные пользователи Сеть: Интернет |
Аннотация
Работа посвящена исследованию механизма протекания химической реакции в процессе осаждения металлических структур на поверхность диэлектрической подложки «Ситалл СТ-50». В работе: впервые использованы лиганды, совмещающие координирующие и восстановительные свойства в процессе формирования токопроводящих осадков в методе ЛОМР. Изучено влияние строения комплекса меди в растворе на процесс лазерного осаждения меди из раствора. Показано, что способ координации атома меди с органическими лигандами в растворе напрямую связан с возможностью формирования токопроводящих осадков.
Права на использование объекта хранения
Статистика использования
|
Количество обращений: 637
За последние 30 дней: 4 Подробная статистика |