Table | Card | RUSMARC | |
Allowed Actions: Read Download (0.7 Mb) Group: Anonymous Network: Internet |
Annotation
Работа посвящена исследованию механизма протекания химической реакции в процессе осаждения металлических структур на поверхность диэлектрической подложки «Ситалл СТ-50». В работе: впервые использованы лиганды, совмещающие координирующие и восстановительные свойства в процессе формирования токопроводящих осадков в методе ЛОМР. Изучено влияние строения комплекса меди в растворе на процесс лазерного осаждения меди из раствора. Показано, что способ координации атома меди с органическими лигандами в растворе напрямую связан с возможностью формирования токопроводящих осадков.
Usage statistics
Access count: 707
Last 30 days: 17 Detailed usage statistics |