Details

Title: Прикладная физика. Микроэлектроника: учебное пособие. Ч. 2
Creators: Сейсян Рубен Павлович
Organization: Санкт-Петербургский государственный политехнический университет
Imprint: Санкт-Петербург: Изд-во СПбГПУ, 2002
Electronic publication: Санкт-Петербург, 2021
Collection: Учебная и учебно-методическая литература; Общая коллекция
Subjects: Микроэлектроника
UDC: 621.38.049.77(075.8)
Document type: Tutorial
File type: PDF
Language: Russian
Speciality code (FGOS): 16.00.00
Speciality group (FGOS): 160000 - Физико-технические науки и технологии
DOI: 10.18720/SPBPU/2/si21-10
Rights: Доступ по паролю из сети Интернет (чтение, печать, копирование)
Record key: RU\SPSTU\edoc\64950

Allowed Actions:

Action 'Read' will be available if you login or access site from another network Action 'Download' will be available if you login or access site from another network

Group: Anonymous

Network: Internet

Annotation

Пособие соответствует государственному образовательному стандарту дисциплины "Микроэлектронные и полупроводниковые приборы" направления магистерской подготовки 553100 "Техническая физика". Является продолжением учебного пособия "Принципы микроэлектроники", часть 1. Но если первая часть была посвящена технико-экономическому анализу основных движущих сил микроэлектроники, то вторая - затрагивает проблемы эффективного синтеза. Рассмотрены основные ограничения и достоинства различных методов создания микрорисунка на поверхности подложки - широко применяемых и начинающих развиваться наряду с разрабатывавшимися прежде, но оставленными или забытыми по тем или иным причинам. Главное внимание уделено выбору и оценке предельных физических возможностей различных технологических процессов, приемов и конструкций. Проанализирована предельная и достигнутая разрешающая способность волновых и пучковых методов, а также методы точного переноса изображения в рабочие слои материала подложки. Наряду с простейшими "трафаретными" методами исследованы процессы фотолитографии, рентгенолитографии, литографии вакуумно-ультрафиолетовым излучением - в вариантах контактной или теневой, или оптической проекции изображения, а также электронолитографии и ионолитографии как проекционной, так и остросфокусированным пучком. Излагаются наиболее современные идеи создания нанолитографа с проекционной рентгеновской оптикой. Предназначено для студентов радиофизических специальностей физико-технического факультета, изучающих дисциплину "Микроэлектронные и полупроводниковые приборы" в рамках магистерской подготовки и может быть полезно широкому кругу специалистов, связанных с микроэлектронными технологическими процессами, с расчетом и конструированием элементов интегральных схем и электронной аппаратуры, их использующей.

Печатается по решению редакционно-издательского совета Санкт-Петербургского государственного политехнического университета.

Document access rights

Network User group Action
ILC SPbPU Local Network All Read Print Download
Internet Authorized users SPbPU Read Print Download
-> Internet Anonymous

Table of Contents

  • ОГЛАВЛЕНИЕ
  • 1. РАЗРЕШАЮЩАЯ СПОСОБНОСТЬ МИКРОТЕХНИЧЕСКИХ ТЕХНОЛОГИЙ
  • 2. “ТРАФАРЕТО”-МЕХАНИЧЕСКАЯ МИКРОТЕХНИК
  • 3. ВОЛНОВЫЕ ВИДЫ МИКРОТЕХНИК
  • 4. ПУЧКОВАЯ МИКРОЛИТОГРАФИЯ
  • 5. СРАВНЕНИЕ РАЗРЕШАЮЩЕЙ СПОСОБНОСТИ РАЗЛИЧНЫХ МЕТОДОВ СУБМИКРОННОЙ ЛИТОГРАФИИ
  • 6. ТЕХНИКА ПЕРЕНОСА ИЗОБРАЖЕНИЯ В РАБОЧИЕ СЛОИ МАТЕРИАЛА
  • СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ

Usage statistics

stat Access count: 9
Last 30 days: 0
Detailed usage statistics