Детальная информация
Название | Выращивание методом молекулярно-лучевой эпитаксии и структурная характеризация наноструктур CoFeB/Bi[2]Te[3]: выпускная квалификационная работа бакалавра: 03.03.02 – Физика |
---|---|
Авторы | Жильцов Никита Сергеевич |
Научный руководитель | Жуков Алексей Евгеньевич |
Организация | Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого. Институт физики, нанотехнологий и телекоммуникаций |
Выходные сведения | Санкт-Петербург, 2018 |
Коллекция | Выпускные квалификационные работы ; Общая коллекция |
Тематика | молекулярно-лучевая эпитаксия ; топологические изоляторы ; спинтроника ; дифракция быстрых электронов ; атомно-силовая микроскопия |
Тип документа | Выпускная квалификационная работа бакалавра |
Тип файла | |
Язык | Русский |
Уровень высшего образования | Бакалавриат |
Код специальности ФГОС | 03.03.02 |
Группа специальностей ФГОС | 030000 - Физика и астрономия |
Ссылки | Отзыв руководителя ; Рецензия |
DOI | 10.18720/SPBPU/2/v18-5647 |
Права доступа | Доступ по паролю из сети Интернет (чтение, печать, копирование) |
Ключ записи | RU\SPSTU\edoc\58169 |
Дата создания записи | 28.11.2018 |
Разрешенные действия
–
Действие 'Прочитать' будет доступно, если вы выполните вход в систему или будете работать с сайтом на компьютере в другой сети
Действие 'Загрузить' будет доступно, если вы выполните вход в систему или будете работать с сайтом на компьютере в другой сети
Группа | Анонимные пользователи |
---|---|
Сеть | Интернет |
Основная задача данной работы – создание и изучение совершенного интерфейса ферромагнетик/топологический изолятор на основе пары материалов Co[40]Fe[40]B[20] (далее CoFeB) /Bi[2]Te[3]. Исследованные в данной работе наноструктуры создавались путём эпитаксиального роста CoFeB на подложках Bi[2]Te[3](0001). Основным результатом работы является получение монокристаллических плёнок ферромагнетика на топологическом изоляторе. Данные наработки планируется применить для дальнейшего детального изучения магнитных и электрофизических свойств интерфейса ферромагнетик/топологический изолятор.
Место доступа | Группа пользователей | Действие |
---|---|---|
Локальная сеть ИБК СПбПУ | Все |
|
Интернет | Авторизованные пользователи СПбПУ |
|
Интернет | Анонимные пользователи |
|
Количество обращений: 108
За последние 30 дней: 0