Детальная информация
| Название | Исследование пленок нитрида галлия, выращенных методом хлоридгидридной газофазной эпитаксии: автореф. дис. … канд. физ.-мат. наук: 01.04.10 |
|---|---|
| Авторы | Цюк Александр Игоревич |
| Организация | Санкт-Петербургский государственный политехнический университет |
| Выходные сведения | СПб., 2011 |
| Коллекция | Научные работы аспирантов/докторантов ; Общая коллекция |
| Тематика | Галлий, нитриды ; Кристаллы — Рост |
| УДК | 537.311.322(043.3) |
| Тип документа | Автореферат |
| Тип файла | |
| Язык | Русский |
| Код специальности ОКСВНК | 01.04.10 |
| Группа специальностей ОКСВНК | 010000 - Физико-математические науки |
| Права доступа | Свободный доступ из сети Интернет (чтение, печать, копирование) |
| Ключ записи | RU\SPSTU\edoc\18662 |
| Дата создания записи | 17.11.2011 |
Работа посвящена исследованию режимов роста нитрида галлия при ХГФЭ. Обнаружено два режима роста, существенно отличающихся по морфологии пленок. комбинация этих режимов позволяет получить пленки нитрида галлия высокого кристаллического совершенства.
| Место доступа | Группа пользователей | Действие |
|---|---|---|
| Локальная сеть ИБК СПбПУ | Все |
|
| Интернет | Все |
|
Количество обращений: 1237
За последние 30 дней: 9
