Details
Title | Исследование пленок нитрида галлия, выращенных методом хлоридгидридной газофазной эпитаксии: автореф. дис. … канд. физ.-мат. наук: 01.04.10 |
---|---|
Creators | Цюк Александр Игоревич |
Organization | Санкт-Петербургский государственный политехнический университет |
Imprint | СПб., 2011 |
Collection | Научные работы аспирантов/докторантов ; Общая коллекция |
Subjects | Галлий, нитриды ; Кристаллы — Рост |
UDC | 537.311.322(043.3) |
Document type | Author's Abstract |
File type | |
Language | Russian |
Speciality code (OKSVNK) | 01.04.10 |
Speciality group (OKSVNK) | 010000 - Физико-математические науки |
Rights | Свободный доступ из сети Интернет (чтение, печать, копирование) |
Record key | RU\SPSTU\edoc\18662 |
Record create date | 11/17/2011 |
Работа посвящена исследованию режимов роста нитрида галлия при ХГФЭ. Обнаружено два режима роста, существенно отличающихся по морфологии пленок. комбинация этих режимов позволяет получить пленки нитрида галлия высокого кристаллического совершенства.
Access count: 1237
Last 30 days: 9