Сейчас в мире огромное количество технологий, которые работают незаметно для нас. К ним относятся различные датчики, сенсоры, процессоры и прочие объекты, размер которых настолько мал, что для создания их требуются все новые и новые технологии. Создание таких приборов очень дорогостоящий и длительный процесс. Для снижения себестоимости конечного продукта, выгодно, отказываться от операций, которые очень часто повторяются, либо объединение этих процессов в один. В данной работе представлены результаты по созданию установки, в которой реализованы два вида разрядов атмосферного давления: ВЧ и ДБ разряды. В результате получены пленка оксида кремния и наночастицы оксида железа.

Now in the world a huge number of technologies that work imperceptibly for us. These include various sensors, sensors, processors and other objects whose size is so small that they require all new and new technologies to create them. The creation of such devices is very expensive and time consuming process. To reduce the cost of the final product, it is beneficial to abandon operations that are very often repeated, or the combination of these processes into one. This paper presents the results of creating an installation in which two types of atmospheric pressure discharges are implemented: HF and DB discharges. The result is a silicon oxide film and iron oxide nanoparticles.