Details
| Title | Разработка технологии получения тонких пленок Al и Ti на подложке SiC для электронной литографии: выпускная квалификационная работа бакалавра: 28.03.01 - Нанотехнологии и микросистемная техника ; 28.03.01_01 - Технологии материалов и изделий микросистемной техники |
|---|---|
| Creators | Багдасарян Карен Артурович |
| Scientific adviser | Соловьев Юрий Владимирович |
| Organization | Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого. Институт металлургии, машиностроения и транспорта |
| Imprint | Санкт-Петербург, 2019 |
| Collection | Выпускные квалификационные работы ; Общая коллекция |
| Subjects | электронно-лучевая литография ; электронно-лучевое испарение ; термическое испарение ; зарядка диэлектрика ; тонкие пленки ; electron beam lithography ; electron beam evaporation ; thermal evaporation ; dielectric charging ; thin films |
| Document type | Bachelor graduation qualification work |
| File type | |
| Language | Russian |
| Level of education | Bachelor |
| Speciality code (FGOS) | 28.03.01 |
| Speciality group (FGOS) | 280000 - Нанотехнологии и наноматериалы |
| Links | Отзыв руководителя ; Отчет о проверке на объем и корректность внешних заимствований |
| DOI | 10.18720/SPBPU/3/2019/vr/vr19-1672 |
| Rights | Доступ по паролю из сети Интернет (чтение, печать, копирование) |
| Record key | ru\spstu\vkr\1162 |
| Record create date | 8/26/2019 |
Allowed Actions
–
Action 'Read' will be available if you login or access site from another network
Action 'Download' will be available if you login or access site from another network
| Group | Anonymous |
|---|---|
| Network | Internet |
В данной работе изложены основы о электронно-лучевой литографии и термическому методу нанесения тонких пленок. Рассмотрена проблема, возникающая при использовании диэлектрических подложек в электронно-лучевой литографии и метод ее решения. Разработана технология нанесения тонких металлических пленок методами электронно-лучевого и резистивного испарения.
This paper presents the basics of electron-beam lithography and thermal method of applying thin films. The problem arising from the use of dielectric substrates in electron-beam lithography and the method of its solution are considered. The technology of application of thin metal films by electron beam and resistive evaporation.
| Network | User group | Action |
|---|---|---|
| ILC SPbPU Local Network | All |
|
| Internet | Authorized users SPbPU |
|
| Internet | Anonymous |
|
Access count: 58
Last 30 days: 0
