| Table | Card | RUSMARC | |
|
|
Allowed Actions: –
Action 'Read' will be available if you login or access site from another network
Action 'Download' will be available if you login or access site from another network
Group: Anonymous Network: Internet |
Annotation
В данной работе изложены основы о электронно-лучевой литографии и термическому методу нанесения тонких пленок. Рассмотрена проблема, возникающая при использовании диэлектрических подложек в электронно-лучевой литографии и метод ее решения. Разработана технология нанесения тонких металлических пленок методами электронно-лучевого и резистивного испарения.
This paper presents the basics of electron-beam lithography and thermal method of applying thin films. The problem arising from the use of dielectric substrates in electron-beam lithography and the method of its solution are considered. The technology of application of thin metal films by electron beam and resistive evaporation.
Document access rights
| Network | User group | Action | ||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| ILC SPbPU Local Network | All |
|
||||
| Internet | Authorized users |
|
||||
|
Internet | Anonymous |
Document usage statistics
|
|
Document access count: 49
Last 30 days: 7 Detailed usage statistics |