Таблица | Карточка | RUSMARC | |
Разрешенные действия: –
Действие 'Прочитать' будет доступно, если вы выполните вход в систему или будете работать с сайтом на компьютере в другой сети
Группа: Анонимные пользователи Сеть: Интернет |
Аннотация
Данная работа посвящена выращиванию методом молекулярно-лучевой эпитаксии (МЛЭ) тонких слоев фторида кальция на кремниевых подложках CaF2/Si(111) и исследованию их кристаллической структуры и топографии методами дифракции быстрых электронов (ДБЭ) на отражение и атомно-силовой микроскопии (АСМ). В ходе исследований были выращены и получены физические свойства 120 нм и 2 нм пленок CaF2, рассмотрен потенциал использования фторида кальция в двумерной наноэлектронике.
This work is devoted to the growth of thin layers of calcium fluoride on silicon substrates CaF2/Si(111) using molecular beam epitaxy (MBE) and the study of their crystal structure and topography by reflection high-energy electron diffraction (RHEED) and atomic force microscopy (AFM). After the growth, the physical properties of 120 nm and 2 nm CaF2 films were studied, and the potential of calcium fluoride films for using in two-dimensional nanoelectronics was considered.
Права на использование объекта хранения
Место доступа | Группа пользователей | Действие | ||||
---|---|---|---|---|---|---|
Локальная сеть ИБК СПбПУ | Все |
![]() |
||||
Интернет | Авторизованные пользователи СПбПУ |
![]() |
||||
![]() |
Интернет | Анонимные пользователи |
Оглавление
- ВЫПУСКНАЯ КВАЛИФИКАЦИОННАЯ РАБОТА РАБОТА БАКАЛАВРА
- «ПРОЦЕССЫ РОСТА И СВОЙСТВА УЛЬТРАТОНКИХ СЛОЕВ CaF2 НА Si(111) ДЛЯ ДВУМЕРНОЙ НАНОЭЛЕКТРОНИКИ»
- ЗАДАНИЕ
- РЕФЕРАТ
- ABSTRACT
- Введение
- Глава 1. Обзор литературы
- 1.1. Эпитаксиальные фториды второй группы
- 1.2. Молекулярно-лучевая эпитаксия
- 1.2.1. Технологическая установка МЛЭ
- 1.2.2. Компьютерное управление установкой
- 1.3. Кварцевый измеритель толщины
- 1.4. Атомно-силовой микроскоп
- 1.5. Контроль состояния поверхности подложки по ДБЭ
- 1.6. Исследование электрических характеристик образцов.
- 1.8. Влияние релаксации термических напряжений на морфологию поверхности слоев CaF2
- Глава 2. Экспериментальные результаты и их обсуждение
- 2.1. Очистка кремниевой подложки
- 2.2. Роль релаксации термических напряжений в процессе роста толстых слоев CaF2
- 2.3. Исследование тонких слоев фторида кальция
- Глава 3. Основные выводы
- 3.1. Анализ проведенных экспериментальных работ
- 3.2. Преимущества CaF2 перед другими материалами
- 3.3. Заключение
- Список литературы
Статистика использования
|
Количество обращений: 5
За последние 30 дней: 0 Подробная статистика |