Объектом исследования являются микролазеры различных радиусов и толщин проводящей области с резонатором, поддерживающим моды шепчущей галереи, при различных геометриях расположения контактов по отношению к подложке (контакт сверху, контакт снизу). Целью теоретической части работы является создание модели расчёта сопротивления микролазеров различных размеров при различном расположении контактов и её исследование. Целью экспериментальной части – проверка теоретической модели поведения сопротивления для контакта снизу подложки. В первой части представлен обзор литературы, в котором описаны особенности объекта изучения и аргументы в пользу перспективности его исследования. Во второй части описаны основные эффекты, оказывающие влияние на сопротивление микролазера при изменении расположения контактов. Также выведены итоговые формулы для расчёта сопротивления в микрорезонаторах. Третья часть посвящена теоретическому анализу полученных во второй главе соотношений и экспериментальной части работы. В данной работе были получены соотношения для расчёта сопротивлений микрорезонатора при различном расположении контактов. Также проведена экспериментальная проверка модели для случая, когда контакт расположен снизу подложки. Полученные формулы могут быть использованы для оптимизации параметров микролазеров.

The object of research are microlasers of various radiuses and thicknesses of the conducting region with a resonator supporting the whispering gallery modes, with different geometries of contact arrangement with respect to the substrate (contact from above, contact from below). The aim of the theoretical part of the work is to create a model for calculating the resistance of a microcavity of various sizes with different arrangement of contacts and to study it. The purpose of the experimental part is to test the theoretical model of the resistance behavior in the case of contact below the substrate. The first part of the work is a review, which describes features of the object under study and arguments in favor of the prospects of its study. The second part describes the main effects that affects on microlaser resistance when changing the arrangement of the contacts. The final equations for calculating the resistance in microcavities are also derived. The third part is devoted to the theoretical analysis of the relations obtained in the second section and the experimental part of the work. As a result, the relations for calculating the microcavity resistances for different positions of the contacts were obtained. An experimental verification of the model was carried out the case of contact below the substrate. The formulas obtained can be used to optimize the parameters of microlasers.