Работа посвящена изучению влияния времени ионно-лучевого травления на заготовки под изделие дисперсионно-акустической линии задержки. Работа проведена на базе АО «НИТИ «Авангард» под руководством начальника группы Капачинских А.А. Был разработан метод травления заготовки изделия с помощью трафаретов, чтобы минимизировать количество используемых заготовок. Проведено ионно-лучевое травление заготовок под изделие при постоянных параметрах, но при разном времени травления. Протравленные участки заготовки анализировались на установке ВАЦ с специальным щупом, для получения их амплитудно-частотных характеристик. Далее, отталкиваясь от технических требований к нашему изделию, был построен график зависимости полученных значений амплитуды от времени ионно-лучевого травления. По данному графику определялось оптимальное время травления, при котором экспериментальное значение амплитуды укладывается в технические требования данного изделия.

The work is devoted to studying the influence of the ion-beam etching time on workpieces for the product of a dispersive-acoustic delay line. The work was carried out on the basis of JSC NITI Avangard under the supervision of the head of the group Kapachinskikh A.A. A method of etching the workpiece blank using stencils was developed to minimize the number of blanks used. Ion-beam etching of blanks for the product was carried out at constant parameters, but at different etching times. The etched sections of the workpiece were analyzed on a ZNB 40 machine with a special probe to obtain their amplitude-frequency characteristics. Further, starting from the technical requirements for our product, a plot of the dependence of the obtained amplitude values on the time of ion-beam etching was plotted. According to this graph, the optimal etching time was determined, at which the experimental value of the amplitude fits into the technical requirements of this product.

• РЕФЕРАТ
• ABSTRACT
• СОДЕРЖАНИЕ
• ПЕРЕЧЕНЬ СОКРАЩЕНИЙ И ОБОЗНАЧЕНИЙ
• ВВЕДЕНИЕ
• ГЛАВА 1 ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЙ ПРОЦЕСС ИЗГОТОВЛЕНИЯ ИЗДЕЛИЯ И МЕСТО ИЛТ В НЕМ
  • 1.1 Пример технологического процесса на примере изготовления ДАЛЗ
  • 1.2 Требования к используемому основанию изделия
  • 1.3 Подготовка поверхности изделия
  • 1.4 Нанесение слоя фоторезиста
  • 1.5 Сушка слоя фоторезиста
  • 1.6 Совмещение фотошаблона с основанием изделия и экспонирование
  • 1.7 Проявление изображения в фоторезисте
  • 1.8 Процесс задубливания фоторезиста
  • 1.9 Травление диэлектрических и металлических покрытий
  • 1.10 Нанесение слоя металла
  • 1.11 Удаление фоторезиста
• ГЛАВА 2 ИОННО-ЛУЧЕВАЯ ТЕХНОЛОГИЯ
  • 2.1 Общее определение ионно-лучевого травления
  • 2.2 Ионный источник. Устройство и принцип работы
  • 2.3 Ускоряющие и замедляющие сетки
  • 2.4 Нейтрализация ионного пучка
• ГЛАВА 3 ДИСПЕРСИОННАЯ ЛИНИЯ ЗАДЕРЖКИ
  • 3.1 Линия задержки и линейно-частотная модуляция
  • 3.2 Дисперсионно-акустическая линия задержки
• ГЛАВА 4 ТРАВЛЕНИЕ ЗАГОТОВКИ ИЗДЕЛИЯ И АНАЛИЗ ПОЛУЧЕННЫХ РЕЗУЛЬТАТОВ
  • 4.1 Процесс травления заготовки изделия
  • 4.2 Анализ протравленных участков
• ЗАКЛЮЧЕНИЕ
• СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ