Детальная информация

Название Оптимизация параметров мощных эмиттеров УФ-излучения на основе гетероструктур с монослойными множественными квантовыми ямами в системе материалов (AlGa)N, выращенных плазменно-активированной молекулярно-пучковой эпитаксией: выпускная квалификационная работа магистра: направление 16.04.01 «Техническая физика» ; образовательная программа 16.04.01_01 «Физика и техника полупроводников»
Авторы Николаева Анна Владимировна
Научный руководитель Мухин Иван Сергеевич
Организация Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого. Институт электроники и телекоммуникаций
Выходные сведения Санкт-Петербург, 2023
Коллекция Выпускные квалификационные работы; Общая коллекция
Тематика Диоды светоизлучающие; Оптоэлектроника; солнечно-слепой диапазон; слои AlGaN; монослойные множественные квантовые ямы; формула коэффициента поглощения излучения множественных квантовых ям; плазменно-активированная молекулярно-пучковая эпитаксия; solar-blind range; AlGaN-layer; monolayer-scale GaN/AlN multiple quantum wells; formula of the optical absorption coefficient of radiation of multiple quantum wells; plasma assisted molecular beam epitaxy
УДК 621.383; 681.7.068
Тип документа Выпускная квалификационная работа магистра
Тип файла PDF
Язык Русский
Уровень высшего образования Магистратура
Код специальности ФГОС 16.04.01
Группа специальностей ФГОС 160000 - Физико-технические науки и технологии
DOI 10.18720/SPBPU/3/2023/vr/vr23-5807
Права доступа Доступ по паролю из сети Интернет (чтение, печать, копирование)
Ключ записи ru\spstu\vkr\26284
Дата создания записи 11.08.2023

Разрешенные действия

Действие 'Прочитать' будет доступно, если вы выполните вход в систему или будете работать с сайтом на компьютере в другой сети

Действие 'Загрузить' будет доступно, если вы выполните вход в систему или будете работать с сайтом на компьютере в другой сети

Группа Анонимные пользователи
Сеть Интернет

Объект исследования — гетероструктуры эмиттеров УФ–излучения с монослойными множественными квантовыми ямами N × {GaNm/AlNn}. Цель работы — повышение выходной мощности гетероструктур эмиттеров УФ–излучения с монослойными множественными квантовыми ямами N ×{GaNm/AlNn} засчёт достижения оптимальных параметров (толщины барьерных слоёв, количества квантовых ям в активной (светоизлучающей области), толщины активной области). В работе проводится теоретический расчёт оптимальных параметров гетероструктур эмиттеров УФ–излучения с монослойными множественными квантовыми ямами N × {GaNm/AlNn}. Для этого была выведена формула оптического коэффициента поглощения монослойных множественных квантовых ям, расчитан коэффициент оптического поглощения монослойных множественных квантовых ям, проведён теоретический расчёт диффузионной длины электронов в барьерных слоях AlN, применено специализированное программно - математическое обеспечение CASINO v.2.5.1.0 была оценена толщина активной (светоизлучающей) области, обеспеивающая оптимальное поглощение электронного пучка с энергией до 15 кэВ. Результаты работы представлены с использованием мультимедийных средств.

The subject of the graduate qualification work is heterostructures of UV–emitters with monolayer–scale GaN/ALN multiple quantum wells for high power e-beam pumped. The given work is devoted to to increase the output power of heterostructures of UV–emitters with monolayer–scale GaN/ALN multiple quantum wells by achieving optimal parameters (thickness of barrier layers AlN, number of quantum wells in the active (light-emitting region), thickness of the active region). The graduate qualification work provides a theoretical calculation of optimal parameters of heterostructures of UV–emitters with monolayer–scaleGaN/ALN multiple quantum wells. For this purpose, the formula of the optical absorption coefficient of monolayer multiple quantum wells was derived, the optical absorption coefficient of monolayer multiple quantum wells was calculated, the theoretical calculation of the diffusion length of electrons in barrier layers AlN, was carried out, with specialized software and mathematical software CASINO v.2.5.1.0 the thickness of the active (lightemitting) region was estimated to ensure optimal absorption of an electron beam with an energy of up to 15 keV. The results of the graduate qualification work are presented using multimedia tools.

Место доступа Группа пользователей Действие
Локальная сеть ИБК СПбПУ Все
Прочитать Печать Загрузить
Интернет Авторизованные пользователи СПбПУ
Прочитать Печать Загрузить
Интернет Анонимные пользователи

Количество обращений: 2 
За последние 30 дней: 0

Подробная статистика