Details

Данная работа посвящена исследованию процессов химического полирования меди и разработке эффективной методики химического полирования меди на основе анализа влияния состава растворов на качество поверхности. В ходе исследования был проведен анализ современных методов химического полирования и их применимости для меди, подготовка образцов (резка, шлифование, механическое полирование пастой ГОИ), проведено химическое полирование с использованием трёх различных растворов. В ходе исследования были использовано специализированное оборудование: 1. Металлографический микроскоп Carl Zeiss JENA NU-2E 2. Рентгеновский дифрактометр ДРОН-4 В результате исследования была разработана комплексная методика химического полирования меди, включающая оценку качества поверхности методами микроскопии и рентгеноструктурного анализа, сравнительный анализ эффективности растворов и разработка рекомендаций.

This work is devoted to the study of chemical polishing processes for copper and the development of an effective copper chemical polishing methodology based on analyzing the influence of solution composition on surface quality. The study involved an analysis of modern chemical polishing methods and their applicability to copper, sample preparation (cutting, grinding, mechanical polishing with GOI paste), and chemical polishing using three different solutions. The following specialized equipment was used in the study: 1. Carl Zeiss JENA NU-2E metallographic microscope 2. DRON-4 X-ray diffractometer As a result of the study, a comprehensive methodology for the chemical polishing of copper was developed, including surface quality assessment through microscopy and X-ray diffraction analysis, a comparative evaluation of solution effectiveness, and recommendations for optimal polishing conditions.